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1. (WO2006118189) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/118189    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308825
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 27.04.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KIDA, Yoshiki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KIDA, Yoshiki; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-131862 28.04.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE PRODUCING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DU DISPOSITIF
(JA) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure method has a first step of placing liquid in a predetermined light path space for exposure light (EL) in an optical system (PL), or of replacing liquid (LQ) placed in the space; a second step of sequentially exposing a predetermined number of substrates (P) through the liquid (LQ) placed in the light path space or through the replaced liquid; and a third step of determining, after the completion of the second step and according to the elapsed time after the first step, whether or not to replace the liquid (LQ) placed in the light path space. Exposure processing and measurement processing can be excellently performed with the liquid placed in the light path space held in desired conditions.
(FR)Le procédé d’exposition selon l’invention comporte une première étape consistant à placer un liquide dans un espace de passage de lumière prédéterminé pour la lumière d’exposition (EL) dans un système optique (PL), ou à remplacer un liquide (LQ) placé dans l’espace ; une seconde étape d'exposition séquentielle d’un nombre prédéterminé de substrats (P) à travers le liquide (LQ) placé dans l'espace de passage de lumière ou à travers le liquide remplacé ; et une troisième étape de détermination, après l’achèvement de la seconde étape et en fonction du temps écoulé après la première étape, de la nécessité ou non de remplacer le liquide (LQ) placé dans l’espace de passage de lumière. Les processus d’exposition et de mesure peuvent être excellemment effectués avec le liquide placé dans l’espace de passage de la lumière conservé dans les conditions désirées.
(JA) 露光方法は、光学系PL内における露光光ELの所定の光路空間に液体を満たすか、または満たされている液体LQを交換する第1ステップと、光路空間に満たされたまたは交換された液体LQを介して所定数の基板Pを順次露光する第2ステップと、第2ステップ終了後、第1ステップからの経過時間に応じて、光路空間に満たされている液体LQを交換するか否かを判断する第3ステップとを有する。光路空間に満たされる液体を所望状態にして、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)