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1. (WO2006118089) DISPOSITIF ET PROCEDE D’APPLICATION DE SOLUTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/118089    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308594
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 25.04.2006
CIB :
B05C 5/00 (2006.01), B05D 1/26 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1333 (2006.01), G02F 1/1368 (2006.01)
Déposants : SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2478610 (JP) (Tous Sauf US).
YAMAZAKI, Takahiro [JP/JP]; (US Seulement)
Inventeurs : YAMAZAKI, Takahiro;
Mandataire : SUZUYE, Takehiko; c/o SUZUYE & SUZUYE 1-12-9, Toranomon Minato-ku, Tokyo 105-0001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-132906 28.04.2005 JP
Titre (EN) SOLUTION APPLICATION DEVICE AND SOLUTION APPLICATION METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE D’APPLICATION DE SOLUTION
(JA) 溶液の塗布装置及び塗布方法
Abrégé : front page image
(EN)A solution application device for applying solution to a substrate having a recess/ridge pattern (15) where recess/ridge sections are regularly formed. The solution application device is provided with an application head (22) having a nozzle (34) and applying in a dropping manner the solution from the nozzle to the substrate, a placement table (13) for moving the substrate and the application head relative to each other, and a control device (41) for controlling, when the substrate and the application head are moved relative to each other by the placement table, the direction of their relative movement to be displaced by a predetermined angle relative to the direction of arrangement of the recess/ridge sections of the recess/ridge pattern formed on the substrate.
(FR)L’invention porte sur un dispositif d’application de solution pour appliquer une solution à un substrat ayant un modèle gorge/strie (15) dans lequel les sections gorge/strie sont formées régulièrement. Le dispositif d’application de solution est doté d’une tête applicatrice (22) ayant une buse (34) et appliquant la solution en la laissant tomber depuis la buse sur le substrat, une table de positionnement (13) pour déplacer le substrat et la tête applicatrice l’un par rapport à l’autre, et un dispositif de contrôle (41) pour contrôler, lorsque le substrat et la tête applicatrice sont déplacées l’un par rapport à l’autre par la table de positionnement, la direction de leur mouvement relatif devant être déplacé selon un angle prédéterminé par rapport à la direction de disposition des sections gorge/strie du modèle gorge/strie formées sur le substrat.
(JA) 凹凸部が規則的に形成された凹凸パターン(15)を有する基板に溶液を塗布する溶液の塗布装置であって、ノズル(34)を有し、ノズルから溶液を基板に滴下塗布する塗布ヘッド(22)と、基板と塗布ヘッドとを相対的に移動させる載置テーブル(13)と、載置テーブルによって基板と塗布ヘッドとを相対的に移動させるときにこれらの相対的移動方向を基板に形成された凹凸パターンの凹凸部の配置方向に対して所定角度ずらすよう制御する制御装置(41)とを具備する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)