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1. (WO2006117642) PROCEDE LITHOGRAPHIQUE DE TRANSFERT DE MOTIF SANS MASQUE SUR UN SUBSTRAT PHOTOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/117642    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/001095
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 01.05.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    20.11.2006    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : RADOVE GMBH [DE/DE]; Schuchardtweg 2, 14109 Berlin (DE) (Tous Sauf US).
SKIBICKI, Dariusz [PL/PL]; (PL) (US Seulement).
PACZKOWSKI, Tomasz [PL/PL]; (PL) (US Seulement).
DOMANOWSKI, Piotr [PL/PL]; (PL) (US Seulement)
Inventeurs : SKIBICKI, Dariusz; (PL).
PACZKOWSKI, Tomasz; (PL).
DOMANOWSKI, Piotr; (PL)
Mandataire : KEIL & SCHAAFHAUSEN; Zusammenschluss Nr. 124, Cronstettenstrasse 66, 60322 Frankfurt am Main (DE)
Données relatives à la priorité :
60/677,019 02.05.2005 US
Titre (EN) LITHOGRAPHIC METHOD FOR MASKLESS PATTERN TRANSFER ONTO A PHOTOSENSITIVE SUBSTRATE
(FR) PROCEDE LITHOGRAPHIQUE DE TRANSFERT DE MOTIF SANS MASQUE SUR UN SUBSTRAT PHOTOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)The invention proposes a Subpixel Scroll method, which optically shifts the position of the mirror elements to the projection axis by one subpixel size each,with an additional 45° mirror between DMD and projection optics. In a preferred embodiment, the 45° mirror is shifted by 1/4 mirror element width by means of a controllable actuator. The size of this change of position and the time are synchronized in such a way by the position indicator signals of the scan sled that the mirror element (as with the standard scrolling method) seems to stand relative to the substrate surface element. Differently than with the standard scrolling method, this resetting is however not bound to the DMD - switching speed of kHz. The invention reduces the blur at the edge transition by the higher resolution and facilitates a higher scan velocity, whereby the scan velocity depends on the dynamics of the actuator, the effective UV - power of the UV - source and the sensitivity of the photosensitive polymer. A further advantageous function of the invention is the possibility of transferring a pattern with higher resolution than given by the mirror element size. For an increase of the resolution in X (scan direction) and Y (perpendicular to the scan direction) two mirror actuators are necessary, which work in X and Y.
(FR)L'invention porte sur un procédé de défilement de sous-pixels ('Subpixel Scroll') qui permet de décaler optiquement la position d'éléments miroirs vers l'axe de projection de la taille d'un sous-pixel chacun, au moyen d'un miroir à à 45° supplémentaire placé entre un dispositif de micromiroir numérique (DMD) et l'optique de projection. Dans un mode de réalisation préféré, le miroir à 45° est décalé d'un quart de largeur d'élément miroir à l'aide d'un actionneur contrôlable. La taille et le moment de ce changement de position sont synchronisés de telle manière, par des signaux indicateurs de la position de la lame de balayage, que l'élément miroir (comme dans le procédé de défilement classique) semble rester en place par rapport à l'élément de surface du substrat. Contrairement au procédé de défilement habituel, cette recomposition n'est cependant pas liée à la vitesse de commutation du DMD en kHz. L'invention permet de réduire le flou à la transition des contours par une meilleure résolution et d'augmenter la vitesse de balayage, la vitesse de balayage dépendant de la dynamique de l'actionneur, de la puissance UV réelle de la source d'UV et de la sensibilité du polymère photosensible. Une autre fonction avantageuse de l'invention est la possibilité de transférer un motif avec une meilleure résolution que celle qu'autorise la taille de l'élément miroir. Pour augmenter la résolution dans le plan X (sens de balayage) et dans le plan Y (perpendiculaire au sens de balayage), deux actionneurs de miroir sont nécessaires, qui travaillent dans le plan X et dans le plan Y.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)