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1. (WO2006117120) SYSTEME ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'OUTILS PAR EXPOSITION PAR IMMERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/117120    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/003890
Date de publication : 09.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    05.03.2007    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : QIMONDA AG [DE/DE]; Gustav-Heinemann-Ring 212, 81379 München (DE) (Tous Sauf US).
BRANDL, Stefan [DE/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BRANDL, Stefan; (US)
Mandataire : EPPING HERMANN FISCHER PATENTANWALTSGESELLSCHAFT MBH; Ridlerstr. 55, 80339 München (DE)
Données relatives à la priorité :
11/120,929 03.05.2005 US
Titre (EN) IMMERSION EXPOSURE TOOL CLEANING SYSTEM AND METHOD
(FR) SYSTEME ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'OUTILS PAR EXPOSITION PAR IMMERSION
Abrégé : front page image
(EN)Methods of cleaning immersion exposure tools using ultrasonic waves and systems thereof are disclosed. An ultrasonic wave generator (250) is coupled to the fluid (206) of an immersion exposure tool (200), or to a component that makes contact with the fluid. The ultrasonic wave generator is activated, generating ultrasonic waves in the fluid that dislodge debris and particulates, cleaning the immersion exposure tool. The ultrasonic wave generator may be activated during an exposure process to vary the distance between the lens system (208) and the wafer (202), increasing the process window.
(FR)L'invention concerne des procédés permettant de nettoyer des outils d'exposition par immersion mettant en oeuvre des ondes ultrasoniques et des systèmes associés. Une génératrice d'ondes ultrasoniques (250) est couplée au fluide (206) d'un outil d'exposition par immersion (200) ou à un composant venant en contact avec le fluide. La génératrice d'ondes ultrasoniques est activée, produit des ondes ultrasoniques dans le fluide délogeant des débris et des particules et nettoie ainsi l'outil d'exposition par immersion. La génératrice d'ondes ultrasoniques peut être activée pendant un procédé d'exposition de manière à modifier la distance entre le système de lentille (208) et la plaquette (202), augmentant ainsi la fenêtre du procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)