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1. (WO2006116222) POLYMERES DE METHACRYLATE DE PERFLUOROALKYLE ET LEUR UTILISATION EN TANT QUE TENSIOACTIF ET REACTIFS DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/116222    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/015318
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 21.04.2006
CIB :
C08F 18/20 (2006.01), B32B 5/02 (2006.01), B05D 3/02 (2006.01)
Déposants : UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA AT CHAPEL HILL [US/US]; 308 Bynum Hall, Campus Box 4105, Chapel Hill, NC 27599-4105 (US) (Tous Sauf US).
GUO, Ji [US/US]; (US) (US Seulement).
DESIMONE, Joseph, M. [US/US]; (US) (US Seulement).
RESNIK, Paul, R. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GUO, Ji; (US).
DESIMONE, Joseph, M.; (US).
RESNIK, Paul, R.; (US)
Mandataire : MYERS BIGEL SIBLEY & SAJOVEC, P.A.; P.O. Box 37428, Raleigh, NC 27627 (US)
Données relatives à la priorité :
60/673,932 22.04.2005 US
60/718,244 16.09.2005 US
60/724,072 06.10.2005 US
Titre (EN) PERFLUOROALKYL (METH)ACRYLATE POLYMERS AND THEIR USE AS SURFACTANT AND SUBSTRATE TREATING REAGENTS
(FR) POLYMERES DE METHACRYLATE DE PERFLUOROALKYLE ET LEUR UTILISATION EN TANT QUE TENSIOACTIF ET REACTIFS DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a polymer, useful as a surfactant and textile reagent, comprising: (a) monomeric units containing a lipophobic group, said monomeric units comprising a compound of Formula: (I); wherein: Z is a spacer; R is H or methyl; Rf is a lipophobic group, R2 and R3 are each independently H or halo; X is -O- or a covalent bond; and o is 0 or 1 or 2; (b) optionally but preferably, monomeric units containing an attachment group; and (c) optionally but preferably, monomeric units containing a hydophobic group.
(FR)L'invention concerne un polymère utile en tant que tensioactif et réactif textile comprenant : (a) des unités monomères contenant un groupe lipophobe, ces unités monomères comprenant un composé représenté par la formule (I), dans laquelle Z représente un espaceur ; R représente H ou méthyle ; Rf représente un groupe lipophobe, R2 et R3 représentent chacun indépendamment H ou halo ; X représente -O- ou une liaison covalente ; et o vaut 0 ou 1 ou 2 ; (b) éventuellement mais de préférence, des unités monomères contenant un groupe d'attachement ; et (c) éventuellement mais de préférence, des unités monomères contenant un groupe hydrophobe.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)