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1. (WO2006115559) DISPOSITIF, SYSTEMES ET PROCEDES DE FORMATION D’UNE LESION EN MODE DOUBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/115559    N° de la demande internationale :    PCT/US2006/003268
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 30.01.2006
CIB :
A61B 18/18 (2006.01), A61B 17/28 (2006.01)
Déposants : BOSTON SCIENTIFIC LIMITED [IE/BB]; P.O. Box 1317, Seaston House, Hastings, Christ Church (BB) (Tous Sauf US)
Inventeurs : LANDIS, William G.; (US).
EBERL, Greg; (US).
SWANSON, David, K.; (US)
Mandataire : SLAVIN, Craig, A.; Henricks Slavin & Holmes LLP, 840 Apollo Street, Suite 200, El Segundo, CA 90245 (US)
Données relatives à la priorité :
11/110,149 20.04.2005 US
Titre (EN) DUAL MODE LESION FORMATION APPARATUS, SYSTEMS AND METHODS
(FR) DISPOSITIF, SYSTEMES ET PROCEDES DE FORMATION D’UNE LESION EN MODE DOUBLE
Abrégé : front page image
(EN)A dual mode lesion formation apparatus including a probe component and clamp component.
(FR)Dispositif de formation d’une lésion en mode double comprenant un composant sonde et un composant de serrage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)