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1. (WO2006115269) ECRAN PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/115269    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308723
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
CIB :
G09G 3/292 (2013.01), G09G 3/20 (2006.01), G09G 3/28 (2013.01), G09G 3/288 (2013.01), G09G 3/291 (2013.01), G09G 3/293 (2013.01), G09G 3/294 (2013.01), G09G 3/298 (2013.01)
Déposants : MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi, Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
TAKEDA, Minoru; (US Seulement).
SHOJI, Hidehiko; (US Seulement)
Inventeurs : TAKEDA, Minoru; .
SHOJI, Hidehiko;
Mandataire : IWAHASHI, Fumio; c/o Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 1006, Oaza Kadoma Kadoma-shi Osaka 5718501 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-127444 26.04.2005 JP
Titre (EN) PLASMA DISPLAY DEVICE
(FR) ECRAN PLASMA
(JA) プラズマディスプレイ装置
Abrégé : front page image
(EN)In a plasma display device, initialization waveforms of different voltage values are applied to a predetermined subfield in which the relationship of the number of sustaining pulses is small and a subfield excluding the predetermined subfield and having a small number of sustaining pulses. Thus, even when discharge interference exists between adjacent cells, it is possible to normally perform write operation in all the discharge cells and obtain a high contrast ratio.
(FR)L’invention concerne un écran plasma comprenant : des formes d’onde d’initialisation, dont les valeurs de voltage diffèrent, qui sont appliquées à un sous-champ prédéterminé dans lequel le lien existant avec le nombre d’impulsions d’entretien est moindre ; et un sous-champ excluant le sous-champ prédéterminé et possédant un petit nombre d’impulsions d’entretien. Ainsi, même lorsqu’il existe une interférence de décharge entre les cellules adjacentes, on peut effectuer normalement une opération d’écriture dans toutes les cellules de décharge et parvenir à un rapport de contraste élevé.
(JA) 維持パルス数の関係が小となる所定のサブフィールドと、この所定のサブフィールドを除くサブフィールドのうち、維持パルス数が最小であるサブフィールドに対し、それぞれ異なる電圧の初期化波形を印加することにより、隣接セル間にて放電干渉があった場合でも、全ての放電セルにおいて書き込み動作を正常に行うことができ、しかもコントラスト比が高いプラズマディスプレイ装置を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)