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1. (WO2006115268) LIQUIDE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION, PROCEDE DE PURIFICATION DE LIQUIDE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCEDE D’EXPOSITION PAR IMMERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/115268    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308722
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G03F 7/38 (2006.01)
Déposants : MITSUI CHEMICALS, INC. [JP/JP]; 5-2, Higashi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1057117 (JP) (Tous Sauf US).
KAGAYAMA, Akifumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKANO, Takashi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAMATANI, Hiroaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAYAMA, Norio [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAGAYAMA, Akifumi; (JP).
NAKANO, Takashi; (JP).
TAMATANI, Hiroaki; (JP).
NAKAYAMA, Norio; (JP)
Mandataire : HAYAMI, Shinji; Daikanyama TK Bldg. 1F 2-17-16, Ebisu-Nishi Shibuya-ku, Tokyo 1500021 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-128504 26.04.2005 JP
Titre (EN) LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE, METHOD FOR PURIFYING LIQUID FOR IMMERSION EXPOSURE, AND IMMERSION EXPOSURE METHOD
(FR) LIQUIDE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION, PROCEDE DE PURIFICATION DE LIQUIDE POUR EXPOSITION PAR IMMERSION ET PROCEDE D’EXPOSITION PAR IMMERSION
(JA) 液浸式露光用液体、液浸式露光用液体の精製方法および液浸式露光方法
Abrégé : front page image
(EN)A liquid for immersion exposure containing a saturated hydrocarbon compound having a purity of not less than 99.5% by weight is obtained by bringing a saturated hydrocarbon compound into contact with at least a first and a second adsorbent.
(FR)L’invention concerne un liquide pour exposition par immersion contenant un composé hydrocarbure saturé ayant une pureté supérieure ou égale à 99,5 % en masse, ledit liquide étant obtenu en mettant en contact un composé hydrocarbure saturé avec au moins un premier et un second agents d’adsorption.
(JA) 飽和炭化水素化合物を少なくとも第1および第2の吸着剤に接触させて、純度99.5重量%以上の飽和炭化水素化合物を含む液浸式露光用液体を得る。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)