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1. (WO2006115186) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/115186    N° de la demande internationale :    PCT/JP2006/308385
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 21.04.2006
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIRAISHI, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HOSHIKA, Ryuichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
FUJIWARA, Tomoharu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIRAISHI, Kenichi; (JP).
HOSHIKA, Ryuichi; (JP).
FUJIWARA, Tomoharu; (JP)
Mandataire : TATEISHI, Atsuji; TATEISHI & CO., Karakida Center Bldg., 1-53-9, Karakida, Tama-shi, Tokyo 2060035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-127025 25.04.2005 JP
2005-238373 19.08.2005 JP
Titre (EN) EXPOSURE METHOD, EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D’EXPOSITION, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An immersion apparatus (132) is provided with a mixing mechanism for mixing a prescribed substance with a liquid supplied on a liquid-repellent film on the surface of an object (member) arranged on a light outgoing side of a projection optical system (PL) and dissolving the substance. The prescribed substance adjusts the specific resistivity of the liquid. A liquid (Lq) wherein the prescribed substance is dissolved is supplied on the liquid-repellent film and an immersion region is formed.
(FR)L’invention concerne un appareil d’immersion (132) pourvu d’un mécanisme de mélange permettant de mélanger une substance prescrite avec un liquide injecté sur un film hydrophobe à la surface d’un objet (élément) disposé sur un côté de sortie de lumière d’un système optique à projection (PL) et de dissoudre la substance. La substance prescrite ajuste la résistivité spécifique du liquide. Un liquide (Lq) dans lequel la substance prescrite est dissoute est appliqué sur le film hydrophobe et une région d’immersion est formée.
(JA) 液浸装置(132)は、投影光学系(PL)の光射出側に配置される物体(部材)表面の撥液膜上に供給される液体にその液体の比抵抗を調整する所定の物質を混入して溶解させる混入機構を有し、その所定の物質を溶解させた液体(Lq)を撥液膜上に供給して液浸領域を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)