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1. (WO2006115077) MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM DE PROTECTION ET MATÉRIAU DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSIST AVEC CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2006/115077 N° de la demande internationale : PCT/JP2006/307864
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 13.04.2006
CIB :
G03F 7/11 (2006.01) ,H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : ISHIDUKA, Keita[JP/JP]; JP (UsOnly)
ENDO, Kotaro[JP/JP]; JP (UsOnly)
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.[JP/JP]; 150, Nakamaruko, Nakahara-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa 2110012, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : ISHIDUKA, Keita; JP
ENDO, Kotaro; JP
Mandataire : SHOBAYASHI, Masayuki; Takase Bldg. 25-8, Higashi-ikebukuro 1-chome Toshima-ku, Tokyo 170-0013, JP
Données relatives à la priorité :
2005-12670325.04.2005JP
Titre (EN) MATERIAL FOR PROTECTIVE FILM FORMATION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN THEREWITH
(FR) MATÉRIAU DE FORMATION DE FILM DE PROTECTION ET MATÉRIAU DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSIST AVEC CELUI-CI
(JA) 保護膜形成用材料およびこれを用いたレジストパターン形成方法
Abrégé :
(EN) A material for protective film formation that is used to form an upper-layer protective film for a resist film and that contains at least a polymer component soluble in water or alkali and an alcohol containing a fluorine atom; and a method of forming a resist pattern with the use of the same. Consequently, not only can the degeneration of resist film during liquid immersion exposure by various liquids for liquid immersion exposure, for example, water and the degeneration of liquid immersion exposure liquids per se be simultaneously prevented in the liquid immersion exposure process, but also without inviting an increase of the number of processing steps, the resistance to post exposure delay of the resist film can be enhanced.
(FR) L’invention concerne un matériau de formation de film de protection servant à constituer un film de protection de couche supérieure pour film résist et contenant au moins un composant polymère soluble dans l’eau ou un liquide alcalin et un alcool contenant un atome de fluor ; et un procédé de formation d’un motif de résist utilisant ledit matériau. En conséquence, l’invention permet non seulement d’empêcher toute dégénération de film de résist pendant l’exposition au liquide d’immersion par divers liquides pour exposition au liquide d’immersion, par exemple de l’eau, et toute dégénération de liquide d’exposition au liquide d’immersion en soi de manière simultanée lors du procédé d’exposition au liquide d’immersion, mais permet également d’éviter l’augmentation du nombre de phases de traitement, et d’améliorer la résistance à la temporisation post-exposition du film de résist.
(JA)  レジスト膜の上層保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、水またはアルカリに可溶性のポリマー成分、およびフッ素原子含有アルコールを少なくとも含有する材料、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。これらにより、液浸露光プロセスにおいて、水を始めとした各種液浸露光用液体による液浸露光中のレジスト膜の変質および液浸露光用液体自体の変質を同時に防止し、かつ処理工程数の増加をきたすことなく、レジスト膜の引き置き耐性を向上させることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)