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1. (WO2006114911) PIECE GLISSANTE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/114911    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/020802
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 14.11.2005
CIB :
B22F 5/00 (2006.01), B22F 1/00 (2006.01), B22F 3/02 (2006.01), F16C 33/12 (2006.01), F16C 33/14 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI MATERIALS PMG CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Kogane-cho 3-chome Niigata-shi, Niigata 950-8640 (JP) (Tous Sauf US).
SHIMIZU, Teruo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MARUYAMA, Tsuneo [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIMIZU, Teruo; (JP).
MARUYAMA, Tsuneo; (JP)
Données relatives à la priorité :
2005-123009 20.04.2005 JP
Titre (EN) SLIDING PART AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) PIECE GLISSANTE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 摺動部品とその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)With respect to sliding parts, it is intended to raise the surface copper coating ratio of sliding regions. A raw material powder is charged in a charging area of forming metal mold, and pressure is applied to the raw material powder to thereby form green compact (6). The green compact (6) is sintered into a bearing as a sliding part. Copper based raw material powder is composed of copper based flat raw material powder (2) of flat form with an average diameter smaller than that of iron based raw material powder (1) and with an aspect ratio greater than that of the iron based raw material powder (1) and copper based fine raw material powder (3) with an average diameter smaller than that of the copper based flat raw material powder (2). Copper segregation is effected on the surface side. The bearing obtained by segregation of the copper based flat raw material powder (2) on the surface side has its surface side covered with copper by the occurrence of not only the copper based flat raw material powder (2) but also the copper based fine raw material powder (3), so that the surface copper coating ratio can be enhanced.
(FR)L’invention concerne des pièces glissantes, où l’on prévoit d’élever le rapport de revêtement de cuivre sur la surface des régions glissantes. Une poudre de matière première est chargée dans une zone de charge destinée à la formation dans un moule en métal, et une pression est appliquée à la poudre de matière première de façon à former de ce fait un comprimé brut (6). Le comprimé brut (6) est fritté en un support en tant que pièce glissante. La poudre de matière première à base de cuivre est composée d’une poudre de matière première plate à base de cuivre (2) de forme plate ayant un diamètre moyen plus petit que celui de la poudre de matière première à base de fer (1) et ayant un rapport longueur/diamètre plus grand que celui de la poudre de matière première à base de fer (1) et d’une poudre de matière première fine à base de cuivre (3) ayant un diamètre moyen plus petit que celui de la poudre de matière première plate à base de cuivre (2). La ségrégation du cuivre est effectuée sur le côté de la surface. Le support obtenu par la ségrégation de la poudre de matière première plate à base de cuivre (2) sur le côté de la surface a son côté de surface recouvert de cuivre par l'occurrence non seulement de la poudre de matière première plate à base de cuivre (2) mais également de la poudre de matière première fine à base de cuivre (3), de telle sorte que le rapport de revêtement de cuivre sur la surface puisse être augmenté.
(JA) 摺動部品において、摺動部の表面銅被覆率を向上する。  原料粉末を成形金型の充填部に充填し、この原料粉末を加圧して圧粉体6を成形し、この圧粉体6を焼結してなる摺動部品たる軸受を形成する。銅系原料粉末は、鉄系原料粉末1より平均直径が小さくかつ該鉄系原料粉末1よりアスペクト比が大きな偏平状の銅系偏平原料粉末2と、該銅系偏平原料粉末2より平均直径が小さい銅系小原料粉末3からなる。そして表面側に銅が偏析している。銅系偏平原料粉末2が表面側に偏析し得られた軸受は、表面側が銅系偏平原料粉末2のみならず銅系小原料粉末3もあらわれて銅に覆われ、表面銅被覆率を向上することができる。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)