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1. (WO2006114764) SYSTEME DE MESURE DE POSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/114764    N° de la demande internationale :    PCT/IB2006/051283
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 25.04.2006
CIB :
G01B 9/02 (2006.01), G01B 11/00 (2006.01), G02B 27/10 (2006.01)
Déposants : KONINKLIJKE PHILIPS ELECTRONICS N.V. [NL/NL]; Groenewoudseweg 1, NL-5621 BA Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
PRESURA, Cristian [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : PRESURA, Cristian; (NL)
Mandataire : ELEVELD, Koop, J.; Prof. Holstlaan 6, NL-5656 AA Eindhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
05103425.4 27.04.2005 EP
Titre (EN) POSITION MEASURING SYSTEM
(FR) SYSTEME DE MESURE DE POSITION
Abrégé : front page image
(EN)Known position measuring systems must be well aligned to provide the necessary resolution for applications such as lithography. The proposed position measuring system (1) comprises a radiation emitting element (2) emitting a radiation beam (3). The radiation beam (3) is diffracted by a diffraction grating (7). First and second diffracted beams (10, 11) having symmetric diffraction orders are reflected back to the radiation-emitting element (2). Meanwhile, the actual frequency of the radiation beam (3) emitting from the radiation-emitting element (2) has been changed so that a beat pattern is produced in the radiation-emitting element (2). By means of a measuring beam (23) this beat pattern is detected in a detector (25).
(FR)Les systèmes de mesure existants doivent être correctement alignés pour offrir la résolution nécessaire pour des applications telles que la lithographie. Le système (1) de mesure décrit comprend un élément (2) émetteur de rayonnement qui émet un faisceau (3) de rayonnement. Ce faisceau (3) de rayonnement est diffracté par un réseau (7) de diffraction. Un premier et un second faisceau (10, 11) de diffraction présentant des ordres de diffraction symétriques, sont réfléchis en sens inverse en direction de l'élément (2) émetteur de rayonnement. Entre-temps, la fréquence réelle du faisceau (3) de rayonnement a été modifiée de manière à produire une onde de battement dans l'élément (2) émetteur de rayonnement. Cette onde de battement est détecté au moyen d'un faisceau (23) de mesure dans un détecteur (25).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)