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1. (WO2006114564) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MIROIRS SUR UN SUBSTRAT CONDUCTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/114564    N° de la demande internationale :    PCT/GB2006/000883
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 13.03.2006
CIB :
G02B 5/08 (2006.01), C25D 7/08 (2006.01), C25D 5/54 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US) (Tous Sauf US).
FYSON, John [GB/GB]; (GB) (US Seulement).
RIDER, Christopher [GB/GB]; (GB) (US Seulement)
Inventeurs : FYSON, John; (GB).
RIDER, Christopher; (GB)
Mandataire : BARKER, Brenda; Kodak Limited, Patent Department (W92-3A), Headstone Drive, Harrow, Middlesex, HA1 4TY (GB)
Données relatives à la priorité :
0508235.9 23.04.2005 GB
Titre (EN) A METHOD OF FORMING MIRRORS ON A CONDUCTING SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MIROIRS SUR UN SUBSTRAT CONDUCTEUR
Abrégé : front page image
(EN)The invention provides a method of producing a mirror under a layer of hydrophilic colloid (8) onto a transparent conducting layer (4) by coating the layer of hydrophilic colloid (8) onto the conductive substrate (4), placing the coated substrate in a plating solution (100), and passing current through the solution (100).
(FR)La présente invention concerne un procédé de production d’un miroir sous une couche de colloïde hydrophile (8) sur une couche conductrice transparente (4) consistant à appliquer la couche de colloïde hydrophile (8) sur le substrat conducteur (4), à placer le substrat revêtu dans une solution de placage (100), et à faire passer un courant dans la solution (100).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)