WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006114416) COMPOSITION AUTO-STABILISANTE DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE POUR COUCHES METALLIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/114416    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/061822
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 25.04.2006
CIB :
C09G 1/02 (2006.01), H01L 21/304 (2006.01)
Déposants : BASF Aktiengesellschaft [DE/DE]; 67056 Ludwigshafen (DE) (Tous Sauf US).
HENSEN, Karl [DE/CN]; (TW) (US Seulement).
SHEN, Kwo-Hung [CN/CN]; (TW) (US Seulement).
CHEN, Ruey-Fang [CN/CN]; (TW) (US Seulement).
CHU, Jea-Ju [CN/CN]; (TW) (US Seulement)
Inventeurs : HENSEN, Karl; (TW).
SHEN, Kwo-Hung; (TW).
CHEN, Ruey-Fang; (TW).
CHU, Jea-Ju; (TW)
Représentant
commun :
BASF Aktiengesellschaft; 67056 Ludwigshafen (DE)
Données relatives à la priorité :
05009069.5 26.04.2005 EP
Titre (EN) SELF-STABILIZING CMP COMPOSITION FOR METAL LAYERS
(FR) COMPOSITION AUTO-STABILISANTE DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE POUR COUCHES METALLIQUES
Abrégé : front page image
(EN)A slurry for use in chemical mechanical polishing of a metal layer comprising Fe-containing SiO2 metal oxide particles uniformly dispersed in a stable aqueous medium is provided. The Fe-containing SiO2 particles provide a mechanical polishing action during polishing. Additionally Fe-containing SiO2 metal oxide particles provide effects to self-stabilize the SiO2 abrasives in the aqueous dispersion, and also act as a catalyst during the polishing operation. The composition of the CMP slurry is particularly suitable for use in the global planarization of a tungsten film on the device wafer surface.
(FR)L'invention concerne une bouillie à utiliser lors d'un polissage chimico-mécanique d'une couche métallique renfermant des particules d'oxyde métallique SiO2 contenant Fe uniformément dispersées dans un milieu aqueux stable. Ces particules SiO2 contenant Fe engendrent une action de polissage mécanique, au cours du polissage. Par ailleurs, lesdites particules présentent des effets d'auto-stabilisation des abrasifs SiO2 dans la solution aqueuse et agissent, également, comme un catalyseur, pendant l'opération de polissage. Cette composition de bouillie de polissage chimico-mécanique est, particulièrement, appropriée à la planarisation globale d'un film de tungstène sur la surface d'une plaquette de dispositif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)