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1. (WO2006114294) SYSTEME D'ECLAIRAGE POUR APPAREIL D'EXPOSITION MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/114294    N° de la demande internationale :    PCT/EP2006/003864
Date de publication : 02.11.2006 Date de dépôt international : 26.04.2006
CIB :
G02B 19/00 (2006.01), G02B 13/14 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2, D-73447 Oberkochen (DE) (Tous Sauf US).
SOHMER, Alexander [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
DODOC, Aurelian [RO/DE]; (DE) (US Seulement).
FELDMANN, Heiko [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ULRICH, Wilhelm [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FÜRTER, Gerhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
EGGER, Rafael [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
MÖGELE, Artur [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
RAUM, Michael [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : SOHMER, Alexander; (DE).
DODOC, Aurelian; (DE).
FELDMANN, Heiko; (DE).
ULRICH, Wilhelm; (DE).
FÜRTER, Gerhard; (DE).
EGGER, Rafael; (DE).
MÖGELE, Artur; (DE).
RAUM, Michael; (DE)
Mandataire : SCHWANHÄUSSER, Gernot; Ostertag & Partner, Epplestr. 14, 70597 Stuttgart (DE)
Données relatives à la priorité :
60/674,691 26.04.2005 US
Titre (EN) ILLUMINATION SYSTEM FOR A MICROLITHGRAPHIC EXPOSURE APPARATUS
(FR) SYSTEME D'ECLAIRAGE POUR APPAREIL D'EXPOSITION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An illumination system (12) of a microlithographic exposure apparatus (10) comprises a condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606) for transforming a pupil plane (54) into a field plane (62) . The condenser has a lens group (L14, L15, L16, L17; L24, L25, L26, L27, L28; L34, L35, L36, L37; L44, L45, L46; L53, L54, L55) that contains a plurality of consecutive lenses. These lenses are arranged such that a light bundle (70) focused by the condenser (601; 602; 603; 604; 605) on an on-axis field point (72) converges within each lens of the lens group. At least one lens (L15, L16, L17; L25, L26; L34, L44, L45; L54) of the lens group has a concave surface. The illumination system may further comprise a field stop objective (66; 666, 666') that at least partly corrects a residual pupil aberration of the condenser (601; 602; 603; 604; 605; 606).
(FR)L'invention concerne un système d'éclairage (12) d'un appareil d'exposition microlithographique (10) comprenant un condensateur (601; 602; 603; 604; 605; 606) destiné à transformer un plan pupillaire (54) en un plan de champ (62). Le condensateur comprend un groupe de lentilles (L14, L15, L16, L17; L24, L25, L26, L27, L28; L34, L35, L36, L37; L44, L45, L46; L53, L54, L55) contenant une pluralité de lentilles consécutives. Ces lentilles sont agencées de sorte qu'un faisceau de lumière (70) focalisé par le condensateur (601; 602; 603; 604; 605) sur un point de champ sur l'axe (72) converge dans chaque lentille du groupe de lentilles. Au moins une lentille (L15, L16, L17; L25, L26; L34, L44, L45; L54) du groupe de lentilles comporte une surface concave. Ce système d'éclairage peut en outre comprendre un objectif d'arrêt de champ (66; 666, 666') qui corrige au moins partiellement une aberration pupillaire résiduelle du condensateur (601; 602; 603; 604; 605; 606).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)