Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2006109427 - PROCEDE DE PURIFICATION D’HEXACHLORURE DE DISILICIUM ET HEXACHLORURE DE DISILICIUM DE PURETE ELEVEE

Note: Texte fondé sur des processus automatiques de reconnaissance optique de caractères. Seule la version PDF a une valeur juridique

[ JA ]

請求の範囲

[I] 六塩ィ匕ニケィ素と、不純物としてのシラノールとを含む六塩ィ匕ニケィ素原料を、吸 着材と接触させ、シラノールを除去する接触工程を備えることを特徴とする六塩ィ匕ニ ケィ素の精製方法。

[2] 上記吸着材が活性炭である請求項 1に記載の六塩ィ匕ニケィ素の精製方法。

[3] 上記接触工程が、不活性ガス雰囲気下で行われる請求項 1に記載の六塩ィ匕ニケィ 素の精製方法。

[4] 更に、上記接触工程の後に、蒸留する蒸留工程を備える請求項 1に記載の六塩ィ匕 ニケィ素の精製方法。

[5] 上記蒸留工程が、不活性ガス雰囲気下で行われる請求項 4に記載の六塩ィ匕ニケィ 素の精製方法。

[6] 請求項 1に記載の精製方法により得られたことを特徴とする高純度六塩化二ケィ素

[7] シラノール量力 ^質量 ppm以下である請求項 6に記載の高純度六塩ィ匕ニケィ素。

[8] シラノール量が 0. 05質量 ppm以下である請求項 6に記載の高純度六塩ィ匕ニケィ 素。

[9] 請求項 4に記載の精製方法により得られたことを特徴とする高純度六塩ィ匕ニケィ素

[10] シラノール量力 ^質量 ppm以下である請求項 9に記載の高純度六塩ィヒニケィ素。

[II] シラノール量が 0. 05質量 ppm以下である請求項 9に記載の高純度六塩ィ匕ニケィ 素。