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1. (WO2006055130) FILTRAGE PASSE-BANDE MULTIPLE POUR PYROMETRIE DANS DES SYSTEMES DE RECUIT A BASE DE LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/055130    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/036796
Date de publication : 26.05.2006 Date de dépôt international : 12.10.2005
CIB :
G01J 5/06 (2006.01), B23K 26/073 (2006.01), B23K 26/03 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 2881 Scott Boulevard, M/S 2061, Santa Clara, CA 95050 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : ADAMS, Bruce, E.; (US).
JENNINGS, Dean; (US).
HUNTER, Aaron, M.; (US).
MAYUR, Abhilash, J.; (US).
PARIHAR, Vijay; (US).
THOMAS, Timothy, N.; (US)
Mandataire : APPLIED MATERIALS, INC.; Patent Counsel, M/S 2061, Legal Affairs Dept., P.O.Box 450A, Santa Clara, CA 95052 (US)
Données relatives à la priorité :
60/627,527 12.11.2004 US
11/195,380 02.08.2005 US
Titre (EN) MULTIPLE BAND PASS FILTERING FOR PYROMETRY IN LASER BASED ANNEALING SYSTEMS
(FR) FILTRAGE PASSE-BANDE MULTIPLE POUR PYROMETRIE DANS DES SYSTEMES DE RECUIT A BASE DE LASER
Abrégé : front page image
(EN)A thermal processing system includes a source of laser radiation emitting at a laser wavelength, beam projection optics disposed between the reflective surface and a substrate support capable of holding a substrate to be processed, a pyrometer responsive to a pyrometer wavelength, and a wavelength responsive optical element having a first optical path for light in a first wavelength range including the laser wavelength, the first optical path being between the source of laser radiation and the beam projection optics, and a second optical path for light in a second wavelength range including the pyrometer wavelength, the second optical path being between the beam projection optics and the pyrometer. The system can further include a pyrometer wavelength blocking filter between the source of laser radiation and the wavelength responsive optical element.
(FR)L'invention concerne un système de traitement thermique comprenant une source de rayonnement laser qui émet à une longueur d'onde, une optique de projection de faisceau disposée entre une surface réfléchissante et un porte-substrat capable de supporter un substrat à traiter, un pyromètre sensible à une longueur d'onde de pyromètre et un élément optique sensible à une longueur d'onde comprenant un premier chemin optique pour la lumière situé dans une première plage de longueurs d'onde comprenant la longueur d'onde laser, ce premier chemin optique étant disposé entre la source de rayonnement laser et l'optique de projection de faisceau, et un second chemin optique pour la lumière situé dans une seconde plage de longueurs d'onde comprenant la longueur d'onde du pyromètre, ce second chemin optique étant disposé entre l'optique de projection de faisceau et le pyromètre. Ledit système peut également comprendre un filtre de blocage de longueur d'onde de pyromètre placé entre la source de rayonnement laser et l'élément optique sensible à une longueur d'onde.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)