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1. (WO2006054544) APPAREIL D’ÉCLAIRAGE, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICRO DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/054544    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/020928
Date de publication : 26.05.2006 Date de dépôt international : 15.11.2005
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G02B 5/10 (2006.01), G02B 19/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
KOMATSUDA, Hideki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KOMATSUDA, Hideki; (JP)
Mandataire : FUJIMOTO, Yoshihiro; Sanshin-Hirose Bldg. 5F, 6-1 Uchikanda 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-332769 17.11.2004 JP
Titre (EN) LIGHTING APPARATUS, EXPOSURE APPARATUS AND MICRO DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D’ÉCLAIRAGE, APPAREIL D’EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICRO DISPOSITIF
(JA) 照明装置、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A lighting apparatus illuminates a plane (M) to be illuminated, with illuminating light projected from a light source (5). The lighting apparatus is provided with an entrance side reflection type fly’s eye optical system (12) configured by arranging a plurality of reflection type partial optical systems in parallel; an outgoing side reflection type fly’s eye optical system (14) configured by arranging a plurality of reflection type partial optical systems corresponding to each of the plurality of reflection type partial optical systems configuring the entrance side reflection type fly’s eye optical system (12); and capacitor optical systems (18, 20) including two reflecting mirrors for guiding the illuminating light reflected by the outgoing side reflection type fly’s eye optical system (14) to the plane (M). At least one of curvature centers of the two reflecting mirrors is optically decentered from a normal line at the center of a lighting area on the plane (M).
(FR)L’invention concerne un appareil d’éclairage éclairant un plan (M) à éclairer, avec la lumière d’éclairage projetée d’une source lumineuse (5). L’appareil d’éclairage est pourvu d’un système optique en oeil de mouche de type à réflexion latérale d’entrée (12) configuré en disposant en parallèle une pluralité de systèmes optiques partiels de type réfléchissant ; un système optique en oeil de mouche de type à réflexion latérale de sortie (14) configuré en disposant une pluralité de systèmes optiques partiels de type réfléchissant correspondant à chacun de la pluralité des systèmes optiques partiels de type réfléchissant composant le système optique en oeil de mouche de type à réflexion latérale d’entrée (12) ; et des systèmes optiques à condensateur (18, 20) englobant deux miroirs réfléchissants permettant de guider la lumière d’éclairage réfléchie par le système optique en oeil de mouche de type à réflexion latérale de sortie (14) vers le plan (M). Au moins l’un des centres de courbure des deux miroirs réfléchissants est décentré optiquement par rapport à une ligne normale au centre d’une zone d’éclairage sur le plan (M).
(JA) 光源5から射出される照明光で被照射面Mを照明する照明装置において、複数の反射型部分光学系を並列に配置することにより構成される入射側反射型フライアイ光学系12と、入射側反射型フライアイ光学系12を構成する複数の反射型部分光学系のそれぞれに対応する複数の反射型部分光学系を並列に配置することにより構成される射出側反射型フライアイ光学系14と、射出側反射型フライアイ光学系14により反射された照明光を被照射面Mに導く2つの反射鏡を含むコンデンサ光学系18,20とを備え、2つの反射鏡の曲率中心の少なくとも一方は、被照射面Mの照明領域中心における法線に対して光学的に偏心している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)