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1. (WO2006054393) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FABRICATION DE FILM MINCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/054393    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018101
Date de publication : 26.05.2006 Date de dépôt international : 30.09.2005
CIB :
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/24 (2006.01), C23C 16/27 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), H01L 21/314 (2006.01)
Déposants : TOKYO UNIVERSITY OF AGRICULTURE AND TECHNOLOGY [JP/JP]; 8-1, Harumi-cho 3-chome, Fuchu-shi, Tokyo 1838538 (JP) (Tous Sauf US).
ITEC CO., LTD. [JP/JP]; 132-1, Kannabe-cho 4-cho, Sakai-shi, Osaka 5900984 (JP) (Tous Sauf US).
WATANABE, Eizo [JP/JP]; (JP).
WATANABE, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SONE, Masato [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUOKA, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIYAKE, Hideo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IIDA, Masayasu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : WATANABE, Eizo; (JP).
WATANABE, Toshiyuki; (JP).
SONE, Masato; (JP).
MATSUOKA, Yoshinori; (JP).
MIYAKE, Hideo; (JP).
IIDA, Masayasu; (JP)
Mandataire : SUZUE, Shoji; Osaka Fukokuseimei Building 2-4, Komatsubara-cho Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300018 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-337176 22.11.2004 JP
2004-337177 22.11.2004 JP
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS FOR PREPARING THIN FILM
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL DE FABRICATION DE FILM MINCE
(JA) 薄膜製造方法及び薄膜製造装置
Abrégé : front page image
(EN)A method for preparing a thin film, which comprises admixing a raw material fluid comprising a silane derivative and a hydrocarbon derivative and a carrier fluid comprising carbon dioxide so as to form a supercritical state, generating an active species in a raw material fluid in the resultant supercritical fluid by a catalytic reaction with at least one metal catalyst selected from among platinum, tungsten, cobalt, nickel, iron and an alloy thereof, and spraying the resultant fluid onto a substrate, to thereby form a silicon-containing solid film or a carbon-containing solid film on the substrate; and an apparatus for practicing the method. The above method and apparatus allow a thin film to be formed uniformly over a wide area.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication d’un film mince, consistant à mélanger un fluide de matière première comprenant un dérivé de silane et un dérivé d’hydrocarbure et un fluide porteur contenant du dioxyde de carbone pour constituer un état supracritique, à générer une espèce active dans un fluide de matière première dans le fluide supracritique résultant par une réaction catalytique avec au moins un catalyseur métallique sélectionné parmi le platine, le tungstène, le cobalt, le nickel, le fer et un alliage de ceux-ci, et à asperger le fluide résultant sur un substrat, pour ainsi constituer un film solide contenant du silicium ou un film solide contenant du carbone sur le substrat ; et un appareil pour mettre en œuvre le procédé. Le procédé et l’appareil ci-dessus permettent de former un film mince de manière uniforme sur une vaste zone.
(JA) 広い面積にわたって均一に薄膜を形成することのできるシリコン含有固体膜の製造方法及びその装置をを提供する物であって、チャンバー内でシラン誘導体や炭化水素誘導体からなる原料流体と二酸化炭素からなるキャリア流体を混合して超臨界状態を形成し、さらに白金、タングステン、コバルト、ニッケル、鉄またはその合金から選ばれたすくなくとも1種の金属触媒による触媒反応により超臨界流体中の原料流体に活性種を発生させ、その流体を基板に吹き付けることにより、基板上にシリコン含有固体膜や炭素含有固体膜を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)