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1. (WO2006053362) PROCEDE POUR LE DEPOT DE COUCHES A PARTIR DE LIQUIDES IONIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/053362    N° de la demande internationale :    PCT/AT2005/000460
Date de publication : 26.05.2006 Date de dépôt international : 16.11.2005
CIB :
C25D 3/66 (2006.01)
Déposants : PLANSEE SE [AT/AT]; A-6600 Reutte (AT) (Tous Sauf US).
ECHEM KOMPETENZZENTRUM FÜR ANGEWANDTE ELEKTROCHEMIE [AT/AT]; Viktor-Kaplan-Strasse 2, A-2700 Wiener Neustadt (AT) (Tous Sauf US).
SCHOTTENBERGER, Herwig [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
BENTIVOGLIO, Gino [IT/IT]; (IT) (US Seulement).
RAUCH, Martin [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
PORCHAM, Wolfgang [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
WINKLER, Georg [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
NAUER, Gerhard [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
KRENDELSBERGER, Rafael [AT/AT]; (AT) (US Seulement).
MARTINZ, Hans-Peter [AT/AT]; (AT) (US Seulement)
Inventeurs : SCHOTTENBERGER, Herwig; (AT).
BENTIVOGLIO, Gino; (IT).
RAUCH, Martin; (AT).
PORCHAM, Wolfgang; (AT).
WINKLER, Georg; (AT).
NAUER, Gerhard; (AT).
KRENDELSBERGER, Rafael; (AT).
MARTINZ, Hans-Peter; (AT)
Représentant
commun :
PLANSEE SE; A-6600 Reutte (AT)
Données relatives à la priorité :
A 8010/2005 19.11.2004 AT
Titre (DE) VERFAHREN ZUR ABSCHEIDUNG VON SCHICHTEN AUS IONISCHEN FLÜSSIGKEITEN
(EN) METHOD FOR DEPOSITING LAYERS FROM IONIC LIQUIDS
(FR) PROCEDE POUR LE DEPOT DE COUCHES A PARTIR DE LIQUIDES IONIQUES
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Abscheidung, insbesondere auch zur elektrochemischen Abscheidung von Schichten aus einer Vielzahl von metallischen oder halbleitenden Elementen und/oder deren Verbindungen auf Substraten. Die Abscheidung erfolgt aus nichtwässriger Lösung, mit einer, ein Kation und ein Anion aufweisenden, organischen ionischen Flüssigkeit (IL) als Bestandteil der Trägerflüssigkeit. Erfindungsgemäß ist das Kation eine redoxinerte und das Anion eine reduzierend wirkende Komponente. Nach dem Verfahren lassen sich dichte Schichten, frei von unerwünschten Komponenten, in einem kontinuierlichen Verfahrensablauf bei tiefen Temperaturen, vorzugsweise zwischen Raumtemperatur und 140°C, herstellen.
(EN)The invention relates to a method for depositing, in particular, also for electrochemically depositing layers comprised of a multitude of metallic or semiconducting elements and/or combinations thereof onto substrates. The deposition ensues from a nonaqueous solution with an organic ionic liquid (IL), which has a cation and an anion and which is a constituent of the carrier liquid. According to the invention, the cation is a redox-inert component and the anion is a component having a reducing action. According to the method, dense layers, while being free of unwanted components, can be produced in a continuous process at low temperatures, preferably between room temperature and 140 °C.
(FR)L'invention concerne un procédé pour le dépôt sur des substrats, notamment pour l'électrodéposition, de couches à partir d'une multitude d'éléments métalliques ou semi-conducteurs et/ou de leurs composés. Le dépôt se fait à partir d'une solution non aqueuse contenant comme constituant du liquide porteur un liquide ionique organique (IL) présentant un cation et un anion. Selon l'invention, le cation est un constituant inerte quant à l'oxydoréduction et l'anion est un constituant à action réductrice. Le procédé selon l'invention permet de produire des couches épaisses exemptes de constituants indésirables, lors d'un processus continu à basses températures, de préférence entre la température ambiante et 140 °C.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)