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1. (WO2006053288) PROCEDE ET SYSTEME DE MARQUAGE SUPERFICIEL PAR LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/053288    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/041144
Date de publication : 18.05.2006 Date de dépôt international : 11.11.2005
CIB :
B23K 26/00 (2006.01)
Déposants : GSI LUMONICS CORPORATION [US/US]; 22300 Haggerty Road, Northville, MI 48167 (US) (Tous Sauf US).
GU, Bo [KR/US]; (US) (US Seulement).
EHRMANN, Jonathan. S. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : GU, Bo; (US).
EHRMANN, Jonathan. S.; (US)
Mandataire : SYROWIK, David; Brooks Kushman, 1000 Town Center, Twenty-second Floor, Southfield, MI 48075 (US)
Données relatives à la priorité :
60/627,760 11.11.2004 US
11/270,109 09.11.2005 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR LASER SOFT MARKING
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE MARQUAGE SUPERFICIEL PAR LASER
Abrégé : front page image
(EN)A laser marking system for marking a softmark on a semiconductor wafer includes a controller to set a pulse width (e.g. 10-200 nanoseconds) that affects the depth of a softmark that is to be formed. The controller further sets a pulse energy (e.g. 600 to 1100 microjoules) of the one or more output pulses to selectively provide the one or more output pulses having a set total output energy for producing the softmark.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des systèmes de marquage superficiel par laser qui sont notamment destinés à des tranches et à des dispositifs semi-conducteurs. Un système de marquage par laser utilisé pour marquer une tranche de semiconducteur en vue de former une marque superficielle sur la tranche est présenté. Le système comprend un sous-système de laser qui génère au moins une impulsion laser et un dispositif de commande fonctionnellement couplé au sous-système de laser. Le dispositif de commande règle une largeur de l'impulsion laser pour la ou les impulsions laser, afin de produire au moins une impulsion laser de sortie ayant au moins une largeur d'impulsion laser définie qui affecte la profondeur d'une marque superficielle qui doit être formée. La profondeur de la marque dépend sensiblement de la (ou des) largeur(s) d'impulsion laser définie(s). Le dispositif de commande règle ensuite une énergie pulsée de la (ou des) impulsion(s) de sortie pour produire sélectivement l'impulsion (ou les impulsions) de sortie présentant une énergie de sortie totale définie qui se situe dans une fenêtre d'énergie de traitement acceptable pour produire la marque superficielle. Le système comprend également un système de distribution du faisceau qui inclut un sous-système optique servant à conduire la ou les impulsions de sortie ayant la ou les largeurs d'impulsion définies et l'énergie de sortie totale définie, dans une région de la tranche de sorte que la densité d'énergie dans cette région, déterminée par la ou les largeurs d'impulsion définies et l'énergie des impulsions totale définie, modifie le matériau de la tranche et produise ainsi la marque superficielle dont la profondeur se situe dans une plage prédéterminée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)