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1. (WO2006052059) PROCEDES DE CONCEPTION AUTOMATIQUE DE MOTIFS DE PLAQUES GUIDES D'ONDES ET SYSTEMES CORRESPONDANTS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/052059    N° de la demande internationale :    PCT/KR2005/002701
Date de publication : 18.05.2006 Date de dépôt international : 17.08.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    15.06.2006    
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : I.S HIGH TECH, INC. [KR/KR]; 509-1, Sam-ri, Silchon-eup, Kwangju-Shi, Kyunggi-do 464-873 (KR) (Tous Sauf US).
AN, Sung Jun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Yong Woo [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : AN, Sung Jun; (KR).
KIM, Yong Woo; (KR)
Mandataire : LEE, Ji-yeon; 3F, Maru Bldg, 942-20 Daichi3-dong, Gangnam-gu, Seoul 135-845 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2004-0093010 15.11.2004 KR
Titre (EN) A METHOD FOR AUTOMATIC DESIGNING PATTERNS OF LIGHT GUIDE PLATE AND SYSTEMS THEREOF
(FR) PROCEDES DE CONCEPTION AUTOMATIQUE DE MOTIFS DE PLAQUES GUIDES D'ONDES ET SYSTEMES CORRESPONDANTS
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein are a system and method of designing the patterns of light guide plates. The central processing unit of the system performs the method of designing the patterns of light guide plates. The method includes the steps of (a) receiving a light guide plate pattern; (b) receiving the shape variables of dots and the variables of the light guide plate; (c) generating the coordinate variables of the dots based on the dot densities; (d) inputting the coordinate variables and shape variables of the dots and the variables of the light guide plate to the simulator; (e) simulating a brightness distribution of the liquid guide plate; (f) obtaining a general average brightness value of the simulated light guide plate; (g) obtaining individual brightness values of analysis sectors into which the light guide plate is divided; and (h) generating dot densities of a new pattern of the light guide plate by increasing or decreasing dot densities of each of the analysis sectors based on the average brightness value and the individual brightness values.
(FR)La présente invention concerne un système et un procédé de conception de motifs de plaques guides d'ondes. L'unité centrale du système exécute le procédé de conception des motifs de plaques guides de lumière. Le procédé inclut les étapes de (a) réception d'un motif de plaque guide de lumière; (b) de réception des variables de forme des points et de variables de la plaque guide de lumière; (c) de génération des variables de coordonnées des points sur la base des densités de points; (d) d'entrée des variables de coordonnées et de forme des points et des variables de la plaque guide de lumière au simulateur; (e) de simulation de la distribution de luminosité de la plaque de guide de liquide; (f) d'obtention d'une valeur moyenne de luminosité de la plaque guide de lumière simulée; (g) d'obtention de valeurs individuelles de luminosité des secteurs d'analyse dans lesquels est divisée la plaque guide de lumière; et (h) de génération de densités de points d'un nouveau motif de la plaque guide de lumière par accroissement ou diminution des densités de points de chacun des secteurs d'analyse sur la base de la valeur de luminosité moyenne et des valeurs individuelles de luminosité.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)