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1. (WO2006050332) METHODE, APPAREIL ET SYSTEME DE NETTOYAGE A BASE DE BISOLVANT DE COMPOSANTS DE PRECISION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/050332    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/039405
Date de publication : 11.05.2006 Date de dépôt international : 28.10.2005
CIB :
B08B 9/00 (2006.01), B08B 3/00 (2006.01), B08B 3/12 (2006.01), B08B 6/00 (2006.01), B08B 7/00 (2006.01), B08B 7/02 (2006.01), B08B 7/04 (2006.01), B08B 3/14 (2006.01), C23G 1/36 (2006.01)
Déposants : FORWARD TECHNOLOGY A CREST GROUP COMPANY [US/US]; 3050 Ranchview Lane North, Minneapolis, MN 55447 (US) (Tous Sauf US).
MOUSER, Wayne [US/US]; (US) (US Seulement).
MANCHESTER, Russell [US/US]; (US) (US Seulement).
BARRETT, William [US/US]; (US) (US Seulement).
BERGMAN, Frederick [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MOUSER, Wayne; (US).
MANCHESTER, Russell; (US).
BARRETT, William; (US).
BERGMAN, Frederick; (US)
Mandataire : HAUN, J., Paul; Patterson, Thuente, Skaar & Christensen, P.A., 4800 IDS Center, 80 South Eighth Street, Minneapolis, MN 55402-2100 (US)
Données relatives à la priorité :
60/623,847 29.10.2004 US
11/259,947 27.10.2005 US
Titre (EN) METHOD, APPARATUS, AND SYSTEM FOR BI-SOLVENT BASED CLEANING OF PRECISION COMPONENTS
(FR) METHODE, APPAREIL ET SYSTEME DE NETTOYAGE A BASE DE BISOLVANT DE COMPOSANTS DE PRECISION
Abrégé : front page image
(EN)A bi-solvent cleaning system (100) for cleaning precision components as illustrated in Fig. 1, without the use of VOC solvents. The cleaning system comprising a cleaning portion (104), a rinsing portion (106) and a solvent recovery portion (108).The bi-solvent cleaning system provides a two mode operation for cleaning and rinsing precision components using VOC exempt solvents that is effective as prior art VOC solvent based systems while subsequentily allowing for recovery and reuse of VOC exempt solvents.
(FR)L'invention concerne un système de nettoyage au bisolvant permettant de nettoyer des composants de précision sans utiliser de solvants à base de composés organiques volatils. Ce système de nettoyage au bisolvant, qui comprend un mode de fonctionnement double pour nettoyer et rincer les composants de précision au moyen de solvant exempt de composés organiques volatils, est aussi efficace que les systèmes à base de solvants à base de composés organiques volatils de la technique antérieure et permet de récupérer et de réutiliser ultérieurement le solvant exempt de composés organiques volatils.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)