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1. (WO2006049954) PROCEDES PERMETTANT DE PROTEGER DES SURFACES D'ELECTRODES EN SILICIUM OU EN CARBURE DE SILICIUM CONTRE UNE MODIFICATION MORPHOLOGIQUE LORS D'UN TRAITEMENT PAR GRAVURE AU PLASMA

Pub. No.:    WO/2006/049954    International Application No.:    PCT/US2005/038373
Publication Date: 11 mai 2006 International Filing Date: 26 oct. 2005
IPC: H01L 21/302
Applicants: LAM RESEARCH CORPORATION
TAKESHITA, Kenji
ASO, Tsuyoshi
KAWAGUCHI, Seiji
MCCLARD, Thomas
CHEN, Wan-Lin
MAGNI, Enrico
KELLY, Michael
LUPAN, Michelle
HEFTY, Robert
Inventors: TAKESHITA, Kenji
ASO, Tsuyoshi
KAWAGUCHI, Seiji
MCCLARD, Thomas
CHEN, Wan-Lin
MAGNI, Enrico
KELLY, Michael
LUPAN, Michelle
HEFTY, Robert
Title: PROCEDES PERMETTANT DE PROTEGER DES SURFACES D'ELECTRODES EN SILICIUM OU EN CARBURE DE SILICIUM CONTRE UNE MODIFICATION MORPHOLOGIQUE LORS D'UN TRAITEMENT PAR GRAVURE AU PLASMA
Abstract:
L'invention a trait à des procédés permettant de former un revêtement polymère protecteur sur une électrode en silicium ou en carbure de silicium d'une chambre de traitement au plasma. Le revêtement polymère assure la protection de la surface sous-jacente de l'électrode lors de l'exposition à des constituants du plasma et à des réactifs gazeux. Les procédés selon l'invention peuvent être appliqués pendant le processus de nettoyage de la chambre ou pendant le processus de gravure d'un substrat semi-conducteur dans la chambre.