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1. (WO2006049518) AMELIORATIONS APPORTEES A DES D'INSTRUMENTS SIFT-MS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/049518    N° de la demande internationale :    PCT/NZ2005/000296
Date de publication : 11.05.2006 Date de dépôt international : 07.11.2005
CIB :
H01J 49/04 (2006.01)
Déposants : SYFT TECHNOLOGIES LIMITED [NZ/NZ]; 3 Craft Place, Middleton, Chrischurch (NZ) (Tous Sauf US).
MCEWAN, Murray, James [NZ/NZ]; (NZ) (US Seulement).
WILSON, Paul, Francis [NZ/NZ]; (NZ) (US Seulement)
Inventeurs : MCEWAN, Murray, James; (NZ).
WILSON, Paul, Francis; (NZ)
Mandataire : ELLIS VERBOEKET, Terry; Level 12, Forsyth Barr House, 45 Johnston Street, Wellington (NZ)
Données relatives à la priorité :
536390 08.11.2004 NZ
Titre (EN) IMPROVEMENTS IN OR RELATING TO SIFT-MS INSTRUMENTS
(FR) AMELIORATIONS APPORTEES A DES D'INSTRUMENTS SIFT-MS
Abrégé : front page image
(EN)A method of improving the signal intensity of precursor ions in the flow tube of a SIFT-MS instrument by separately and simultaneously injecting a first buffer gas and a second buffer gas into the flow tube through separate concentric apertures in a flange located in a venturi type inlet, the venturi including a central orifice through which precursor ions art also injected into the flow tube.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant d'améliorer l'intensité d'un signal d'ions précurseurs dans le tube d'écoulement d'un instrument SIFT-MS par injection séparée et simultanée d'un premier gaz tampon et d'un second gaz tampon dans le tube d'écoulement via des ouvertures concentriques séparées ménagées dans un rebord situé dans une entrée du type Venturi, ladite entrée du type Venturi comprenant un orifice central à travers lequel les ions précurseurs sont également injectés dans le tube d'écoulement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)