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1. (WO2006049371) PROCÉDÉ D'ENCAPSULATION DE SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/049371    N° de la demande internationale :    PCT/KR2005/000248
Date de publication : 11.05.2006 Date de dépôt international : 28.01.2005
CIB :
H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : DOOSAN DND CO., LTD. [KR/KR]; B3-22, 397-2, Moknae-dong, Danwon-gu, Ansan-city, Kyunggi-do 425-100 (KR) (Tous Sauf US).
HWANG, Chang-Hun [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Seung-Han [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Do-Gon [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
KIM, Beom-Jae [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : HWANG, Chang-Hun; (KR).
KIM, Seung-Han; (KR).
KIM, Do-Gon; (KR).
KIM, Beom-Jae; (KR)
Mandataire : KIM, Inhan; Room 901, Doorea Bldg., 24,, Yeouido-dong, Yeongdeungpo-gu,, Seoul 150-877 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2004-0088374 02.11.2004 KR
Titre (EN) SUBSTRATE ENCAP PROCESS
(FR) PROCÉDÉ D'ENCAPSULATION DE SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to the thin film encap process on the substrate and provides the following substrate encap process; first process that the thin film sitting on the top of robot arm is located at designated distance (Dl) apart from the heating plate, the second process that the thin film sitting on the top of robot arm is taken up by holders which are assembled at two sides of chamber and are able to horizontal shift, and the robot arm is moved out from the chamber, the third process that the heating plate is shifted up until infinitesimal distance (D2) from the thin film and the chamber is turned to vacuum state by extraction of air by pump, the fourth process that one of the grip in holder is released and shifted horizontally toward the direction to chamber, then the other grip in other holder is shifted horizontally toward the corresponding direction to chamber.
(FR)Procédé d'encapsulation d'un substrat à l'aide d'un film mince selon lequel le film mince situé sur le bras de robot est placé à une distance déterminée (D1) de la plaque de chauffe, le film mince situé sur le bras de robot est saisi par des dispositifs de retenue montés sur deux côtés de la chambre et capables d'opérer un déplacement horizontal, le bras de robot est évacué de la chambre, la plaque de chauffe est levée jusqu'à se trouver à une distance minime (D2) du film mince, le vide est créé dans la chambre par extraction de l'air à l'aide d'une pompe, l'une des pinces du dispositif de retenue est libérée et déplacée horizontalement en direction de la chambre et l'autre pince de l'autre dispositif de retenue est déplacée horizontalement en direction de la chambre.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : coréen (KO)