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1. (WO2006048287) DISPOSITIF ROTATIF CONÇU POUR MAINTENIR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/048287    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/011776
Date de publication : 11.05.2006 Date de dépôt international : 03.11.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    06.06.2006    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/68 (2006.01), B05B 13/02 (2006.01), B08B 3/02 (2006.01)
Déposants : SÜSS MICRO TEC LITHOGRAPHY GMBH [DE/DE]; Schleissheimer Strasse 90, 85748 Garching (DE) (Tous Sauf US).
FISCHER, Karin [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
KRAMER, Joseph [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : FISCHER, Karin; (DE).
KRAMER, Joseph; (DE)
Mandataire : VOSSIUS & PARTNER; Siebertstr. 4, 81675 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 053 139.0 03.11.2004 DE
Titre (DE) DREHBARE VORRICHTUNG ZUM HALTEN EINES SUBSTRATS
(EN) ROTATABLE DEVICE FOR HOLDING A SUBSTRATE
(FR) DISPOSITIF ROTATIF CONÇU POUR MAINTENIR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung stellt eine dreh- und gegebenenfalls heizbare Vorrichtung zum Halten eines flächigen Substrats bereit. Die Vorrichtung weist eine Auflageeinrichtung zum Auflegen und Halten des Substrats auf einer Auflagefläche, optional eine Heizeinrichtung, eine Einrichtung zum Drehen der Auflageeinrichtung und eine Einrichtung zum Aufbringen eines Fluids, z. B. eines Lösungsmittels, auf die der Auflagefläche zugewandten Seite des Substrats auf. Das Fluid wird aufgebracht, wenn die Auflageeinrichtung zum Auflegen und Halten des Substrats in Rotation versetzt wird.
(EN)The invention relates to a rotatable and, optionally, heatable device for holding a flat substrate. The device comprises a supporting device for placing and holding the substrate on a supporting surface, and optionally comprises a heating device, a device for rotating the supporting device, and a device for applying a fluid, e.g. a solvent, onto the side of the substrate facing the supporting surface. The fluid is applied when the supporting device for supporting and holding the substrate is placed in rotation.
(FR)L'invention concerne un dispositif rotatif pouvant éventuellement être chauffé, qui est conçu pour maintenir un substrat plat. Ce dispositif comprend : un système de placement servant à placer et maintenir le substrat sur une surface d'appui ; éventuellement un système de chauffage ; un système destiné à animer le système de placement d'un mouvement de rotation, et ; un système pour appliquer un fluide, par exemple un solvant, sur la face du substrat qui est orientée vers la surface d'appui. Ledit fluide est appliqué lorsque le système de placement servant à placer et maintenir le substrat est animé d'un mouvement de rotation.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)