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1. (WO2006046736) COMPOSÉ THIOL ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE L’UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/046736    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019959
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 25.10.2005
CIB :
C07C 323/53 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/00 (2006.01), B41C 1/10 (2006.01)
Déposants : SHOWA DENKO K.K. [JP/JP]; 13-9, Shiba Daimon 1-chome, Minato-ku, Tokyo 105-8518, Japan (JP) (Tous Sauf US).
KAMATA, Hirotoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ONISHI, Mina [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MUROFUSHI, Katsumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KAMATA, Hirotoshi; (JP).
ONISHI, Mina; (JP).
MUROFUSHI, Katsumi; (JP)
Mandataire : OZAWA, Nobuhiko; Ohie Patent Office, Selva-Ningyocho 6F, 14-6, Nihonbashi-Ningyocho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 103-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-311234 26.10.2004 JP
2004-311276 26.10.2004 JP
60/624,529 04.11.2004 US
60/624,548 04.11.2004 US
Titre (EN) THIOL COMPOUND AND PHOTOSENSITIVE COMPOSITION USING THE SAME
(FR) COMPOSÉ THIOL ET COMPOSITION PHOTOSENSIBLE L’UTILISANT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a thiol compound represented by formula (1) : wherein R1, R2 and n have the same meanings as in the specification, method for producing the compound, and to a photosensitive composition and a black matrix resist composition using the same which have high sensitivity and excellent property of retaining a line width in fine line patterns at the time of alkaline development, that is, being excellent in development latitude.
(FR)La présente invention concerne un composé thiol représenté par la formule (1) : où R1, R2 et n ont les mêmes significations que dans la description, un procédé de fabrication du composé ainsi qu’une composition photosensible et une composition de réserve à matrice noire utilisant ce composé qui possèdent une sensibilité élevée et une excellente propriété de rétention de la largeur de ligne dans un motif à fines lignes au moment du développement alcalin, c'est-à-dire qu'il possède une excellente latitude de développement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)