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1. (WO2006046463) DISPERSIONS DE FINES PARTICULES CATIONIQUES ET PAPIERS D’ENREGISTREMENT À JET D’ENCRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/046463    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019296
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 20.10.2005
CIB :
C01B 33/141 (2006.01), B41J 2/01 (2006.01), B41M 5/00 (2006.01), B41M 5/50 (2006.01), B41M 5/52 (2006.01)
Déposants : Konica Minolta Photo Imaging, Inc. [JP/JP]; 26-2, Nishishinjuku 1-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1630512 (JP) (Tous Sauf US).
TAKA, Yukako [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IWASAKI, Toshihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OHBAYASHI, Keiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKA, Yukako; (JP).
IWASAKI, Toshihiko; (JP).
OHBAYASHI, Keiji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-313633 28.10.2004 JP
2004-313634 28.10.2004 JP
2004-313635 28.10.2004 JP
Titre (EN) CATIONIC FINE PARTICLE DISPERSIONS AND INK-JET RECORDING PAPAERS
(FR) DISPERSIONS DE FINES PARTICULES CATIONIQUES ET PAPIERS D’ENREGISTREMENT À JET D’ENCRE
(JA) カチオン性微粒子分散体及びインクジェット記録用紙
Abrégé : front page image
(EN)Cationic fine particle dispersions which are obtained either by dispersing vapor phase process silica fine particles in the presence of a water-soluble polyvalent metal compound and changing the pH in the dispersing step or by dispersing vapor phase process silica fine particles in the presence of a water-soluble polyvalent metal compound and enhancing the pH in the dispersing step; cationic fine particle dispersions which each contain a water-soluble cationic polymer having a weight -average molecular weight of 50000 or below and a water-soluble polyvalent metal compound and which have zeta potentials of +45mV or above at 25˚C; and cationic fine particle dispersions which each contain silica fine particles, a water-soluble aliphatic hydroxyl compound having a weight-average molecular weight of 60 to 1000, and a water-soluble polyvalent metal compound and which can form cationic silica composite fine particles having average zeta potentials of +45mV or above.
(FR)L’invention concerne des dispersions de fines particules cationiques que l’on obtient soit en dispersant de fines particules de silice en phase vapeur en présence d’un composé de métal polyvalent soluble dans l’eau et en modifiant l’acidité pH dans la phase de dispersion ou bien en dispersant de fines particules de silice en phase vapeur en présence d’un composé de métal polyvalent soluble dans l’eau et en augmentant l’acidité pH dans la phase de dispersion ; elle concerne également des dispersions de fines particules cationiques contenant chacune un polymère cationique soluble dans l’eau d’un poids moléculaire moyen en poids inférieur ou égal à 50000 et un composé de métal polyvalent soluble dans l’eau aux potentiels zêta supérieurs ou égaux à +45mV à 25°C; et des dispersions de fines particules cationiques contenant chacune de fines particules de silice, un composé hydroxyle aliphatique soluble dans l’eau d’un poids moléculaire moyen en poids de 60 à 1000, et un composé de métal polyvalent soluble dans l’eau et susceptible de former de fines particules composites de silice cationiques aux potentiels zêta supérieurs ou égaux à +45mV.
(JA) 水溶性多価金属化合物の存在下で気相法シリカ微粒子を分散し、かつ該分散時にpHを変化させて得られるか、水溶性多価金属化合物の存在下で気相法シリカ微粒子を分散し、かつ該分散時にpHを上昇させて得られるか、重量平均分子量50000以下の水溶性カチオン性ポリマー及び水溶性多価金属化合物を含み、25°Cにおけるゼータ電位が+45mV以上である、又は、シリカ微粒子、重量平均分子量が60~1000の脂肪族水酸基を有する水溶性化合物及び水溶性多価金属化合物を含み、形成されるカチオン性シリカ複合微粒子の平均ゼータ電位が+45mV以上であるカチオン性微粒子分散液。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)