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1. (WO2006046458) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PRÉFORME DE FIBRE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/046458    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019279
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 20.10.2005
CIB :
C03B 37/018 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410041 (JP) (Tous Sauf US).
NAKANISHI, Tetsuya; (US Seulement).
HIRANO, Masaaki; (US Seulement)
Inventeurs : NAKANISHI, Tetsuya; .
HIRANO, Masaaki;
Mandataire : NAKANO, Minoru; c/o Sumitomo Electric Industries, Ltd. 1-3, Shimaya 1-chome, Konohana-ku Osaka-shi, Osaka 5540024 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-315900 29.10.2004 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING OPTICAL FIBER PREFORM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PRÉFORME DE FIBRE OPTIQUE
(JA) 光ファイバ母材の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing an optical fiber preform, in which while reducing unsintered portions and foams, glass synthesis and deposition can be performed at a high rate in accordance with an internal CVD using a plasma burner as a heat source. The process comprises the step of by means of a plasma burner which travels while feeding a gas containing glass raw materials into a starting pipe of d (mm) wall thickness, heating the pipe and depositing a glass film on the inside wall of the pipe. In the first mode, heating temperature is controlled so that at every point of the pipe, the temperature does not exceed (1800+100×d)°C and so that the time of temperature ≥ (1100+100×d)°C continues for ≥ 20 sec. In the second mode, the plasma burner has at least two gas inlets and has an inside diameter of ≥ 80 mm (sectional area S) at site of plasma generation. In the deposition step, when Q represents the total flow rate of gas introduced in the burner, there is satisfied the relationship: 150 mm/sec < Q/S < 600 mm/sec.
(FR)L’invention concerne un procédé de fabrication de préforme de fibre optique, dans lequel tout en réduisant les mousses et les portions non frittées, on peut réaliser une synthèse et une déposition de verre à grande vitesse selon un CVD interne en utilisant un brûleur au plasma comme source thermique. Le procédé comprend la phase, à l’aide d’un brûleur au plasma en mouvement tout en injectant un gaz contenant des matières premières de verre dans un tube de départ d’une épaisseur de paroi d (mm), de chauffage du tuyau et de déposition d’un film de verre sur la paroi interne du tuyau. Dans le premier mode, la température de chauffage est régulée pour qu’en tout point du tuyau, la température ne dépasse pas (1800+100×d)°C et que la durée pendant laquelle la température est ≥ (1100+100×d)°C soit ≥ 20 sec. Dans le second mode, le brûleur au plasma possède au moins deux entrées de gaz et un diamètre interne ≥ 80 mm (zone de section S) sur le site de génération de plasma. Dans la phase de déposition, où Q représente le débit total de gaz injecté dans le brûleur, la relation suivante est satisfaite : 150 mm/sec < Q/S < 600 mm/sec.
(JA)プラズマバーナを熱源とした内付けCVD法により、未焼結部分や気泡が少なく、高速でガラスを合成し堆積することが可能な光ファイバ母材の製造方法を提供する。ガラス原料を含むガスを肉厚d(mm)の出発パイプ内に導入しながら移動するプラズマバーナによりパイプを加熱してパイプの内壁にガラス膜を堆積させる工程を含み、第一の態様では、パイプの各点において、温度が(1800+100×d)°Cを越えず、かつ、(1100+100×d)°C以上の温度となる時間が20秒以上連続するように加熱温度を制御する。第二の態様では、プラズマバーナは、少なくとも二つのガス導入口を備え、プラズマが形成される部位における内径が80mm以上(断面積S)であり、堆積する工程では、バーナ内に導入されるガスの総流量をQで表したときに、150mm/秒<Q/S<600mm/秒の関係を満たす。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)