WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006046434) DISPOSITIF DE DÉTECTION D’IMAGE BIDIMENSIONNELLE ET MÉTHODE DE FABRICATION DE CELUI-CI
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/046434    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019084
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 18.10.2005
CIB :
H01L 27/14 (2006.01), G01T 1/24 (2006.01), H04N 5/32 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho, Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 5458522 (JP) (Tous Sauf US).
IZUMI, Yoshihiro; (US Seulement)
Inventeurs : IZUMI, Yoshihiro;
Mandataire : HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK; Daiwa Minamimorimachi Building, 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku, Osaka-shi Osaka 5300041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-314373 28.10.2004 JP
Titre (EN) 2-DIMENSIONAL IMAGE DETECTION DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) DISPOSITIF DE DÉTECTION D’IMAGE BIDIMENSIONNELLE ET MÉTHODE DE FABRICATION DE CELUI-CI
(JA) 二次元画像検出装置およびその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)There are provided a 2-dimensional image detection device having a mold structure which can be applied to mammography and manufacturing method thereof. The manufacturing method includes: a conversion layer formation step for forming a conversion layer (3) on an active matrix substrate (2); an opposing substrate formation step for arranging a spacer material (5) and arranging an opposing substrate (6) to oppose to the active matrix substrate (2) via the spacer material (5); a mold resin layer formation step for forming a mold structure layer (8) in a area surrounded by the conversion layer (3), the spacer material (5), and the opposing material (6); a cut off step for cutting of at least the active matrix substrate (2) so that the cut off surface of the respective constituent members are flat; and a seal step for fixing a seal material (7) on the cut off surface.
(FR)Est proposé un dispositif de détection d’image bidimensionnelle possédant une structure de moule et qui peut être exploité pour la mammographie, ainsi que sa méthode de fabrication. La méthode de fabrication comprend : une étape de formation de la couche de conversion pour former une couche de conversion (3) sur un substrat de matrice active (2) ; une formation de substrat opposé pour disposer un matériau d’espacement (5) et disposer un substrat opposé (6) au substrat de matrice active (2) au travers du matériau d’espacement (5) ; une étape de formation de la couche de résine de moule pour former une couche de structure de moule (8) dans une zone entourée par la couche de conversion (3), le matériau d’espacement (5) et le matériau opposé (6) ; une étape de coupure pour couper au moins le substrat de matrice active (2) de façon à ce que la surface de coupe des éléments constitutifs respectifs soit plate ; et une étape de scellement pour fixer un matériau de scellement (7) sur la surface de coupe.
(JA) アクティブマトリクス基板(2)上に変換層(3)を形成する変換層形成工程と、スペーサー材(5)を配置し、スペーサー材(5)を介して対向基板(6)をアクティブマトリクス基板(2)と対向配置する対向基板形成工程と、変換層(3)とスペーサー材(5)と対向基板(6)とによって囲まれた領域に、モールド構造層(8)を形成するモールド樹脂層形成工程と、各々の構成部材の分断面が面一となるように少なくともアクティブマトリクス基板(2)を分断する分断工程と、上記分断面に封止材(7)を固着する封止工程とを含むことにより、マンモグラフィ用途に適用できる、モールド構造を備えた二次元画像検出装置および、その製造方法を提供することができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)