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1. (WO2006045835) MIROIR DICHROIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/045835    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/055605
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 27.10.2005
CIB :
C03C 17/34 (2006.01), C03C 17/36 (2006.01)
Déposants : GLAVERBEL [BE/BE]; Chaussée de La Hulpe, 166, B-1170 Bruxelles (Watermael-Boitsfort) (BE) (Tous Sauf US).
AUMERCIER, Laurent [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
DREIDEMY, Pierre, André [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : AUMERCIER, Laurent; (FR).
DREIDEMY, Pierre, André; (FR)
Mandataire : BOUVY, Jacques; Glaverbel - Centre R & D, Department Intellectual Property, Rue de l'Aurore, 2, B-6040 Jumet (BE)
Données relatives à la priorité :
04105400.8 29.10.2004 EP
Titre (EN) DICHROIC MIRROR
(FR) MIROIR DICHROIQUE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention concerns dichroïc mirrors also known as optical filters. In particular, rear view mirrors comprising a vitreous substrate coated with a stack of interferential layers and with a metallic reflector. The stack of layers includes, successively from the substrate, i) one layer of a high refractive index material in the range of 1.9 to 2.8, ii) one layer of a lower refractive index material in the range of 1.2 to 2, iii) one layer of semiconductor material having a refractive index of more than 3. The refractive indexes of high refractive index materials and of the low refractive index materials differ at least by 0.2, and the coated substrate has a transmittance at 550 nm of at least 6%, preferably at least 8% and a reflectance at 550 nm greater than 45%, preferably greater than 50 %.
(FR)L'invention concerne des miroirs dichroïques également connus sous le nom de filtres optiques, notamment des rétroviseurs comportant un substrat vitreux revêtu d'une pile de couches d'interférence et d'un réflecteur métallique. Ladite pile de couches comporte successivement, à partir du substrat, i) une couche de matériau à indice de réfraction élevé dont l'indice de réfraction est compris entre 1,9 et 2,8 ; ii) une couche de matériau à indice de réfraction faible dont l'indice de réfraction est compris entre 1,2 et 2 ; et iii) une couche de matériau semiconducteur dont l'indice de réfraction est supérieur à 3. Les indices de réfraction des couches de matériau à indice de réfraction élevé et de matériau à indice de réfraction faible différent de l'ordre d'au moins 0,2, et le substrat revêtu présente un facteur de transmission d'au moins 6 % à 550 nm, de préférence d'au moins 8 %, et un facteur de réflexion supérieur à 45 % à 550 nm, de préférence supérieur à 50 %.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)