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1. (WO2006045632) ELEMENT OPTIQUE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/045632    N° de la demande internationale :    PCT/EP2005/011656
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 26.10.2005
CIB :
G02B 6/124 (2006.01), G02B 6/136 (2006.01), H01S 5/125 (2006.01)
Déposants : FORSCHUNGSVERBUND BERLIN E.V. [DE/DE]; Rudower Chaussee 17, 12489 Berlin (DE) (Tous Sauf US).
ERBERT, Götz [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FRICKE, Jörg [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
WENZEL, Hans [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
JOHN, Wilfried [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
GÜTHER, Reiner [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : ERBERT, Götz; (DE).
FRICKE, Jörg; (DE).
WENZEL, Hans; (DE).
JOHN, Wilfried; (DE).
GÜTHER, Reiner; (DE)
Mandataire : HENGELHAUPT, Jürgen, D.; Gulde Hengelhaupt Ziebig & Schneider, Wallstr. 58/59, 10179 Berlin (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2004 052 857.8 26.10.2004 DE
Titre (DE) DBR LASERELEMENT MIT BRAGG-GITTER HOHER ORDNUNG UND RIPPENWELLENLEITER
(EN) DBR LASER ELEMENT WITH HIGH ORDER BRAGG GRATING AND RIB WAVEGUIDE
(FR) ELEMENT OPTIQUE ET SON PROCEDE DE PRODUCTION
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein optisches Element mit einer planaren vertikalen Wellenleiterstruktur (1), auf deren Oberfläche ein Braggsches Gitter (5) und ein Rippenwellenleiter (6) angeordnet sind sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung. Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein optisches Element mit einem Braggschen Gitter (5) mit Rippenwellenleiter (6) anzugeben, welches bei vorgegebenen optischen Anforderungen kostengünstiger und schneller als nach dem Stand der Technik hergestellt werden kann. Dazu wird eine Fotolackschichtstruktur (3) auf einer im Wesentlichen ebenen planaren vertikalen Wellenleiterstruktur (1) ausgebildet, wobei die Fotolackschichtstruktur (3) im Wesentlichen der Struktur des Braggschen Gitters (5) und des Rippenwellenleiters (6) entspricht und im Bereich des Braggschen Gitters (5) im Wesentlichen linienförmig mit einer Stegbreite ausgebildet wird, die mindestens 70 % des Abstandes zweier benachbarter Linien entspricht, nachfolgend die planare vertikale Wellenleiterstruktur (1) mit darauf angeordneter Fotolackschichtstruktur (3) geätzt und die Fotolackschichtstruktur (3) von der planaren vertikalen Wellenleiterstruktur (1) abgelöst.
(EN)An optical element is disclosed having a planar vertical waveguide structure (1) on the surface of which are arranged a Bragg grating (5) and a rib waveguide (6), as well as a process for producing the same. The object of the present invention is to provide an optical element having a Bragg grating (5) and a rib waveguide (6) which can be produced faster and more economically than in the prior art, while continuing to satisfy predetermined optical requirements. For that purpose, a photoresist layer structure (3) which substantially corresponds to the structure of the Bragg grating (5) and rib waveguide (6) is formed on the substantially planar and even vertical waveguide structure (1), the photoresist layer structure (3) extending linearly in the region of the Bragg grating (5) with a width which corresponds to at least 70 % of the distance between two adjacent lines. The planar vertical waveguide structure (1) with the overlying photoresist layer structure (3) is then etched and the photoresist layer structure (3) is removed from the planar vertical waveguide structure (1).
(FR)L'invention concerne un élément optique comprenant une structure guide d'ondes (1) verticale plane sur la surface de laquelle sont placés un réseau de Bragg (5) et un guide d'ondes à nervures (6). L'invention concerne également son procédé de production. L'invention vise à créer un élément optique qui comporte un réseau de Bragg (5) doté de guides d'ondes à nervures (6) et qui, selon des exigences optiques, peut être réalisé de manière plus économique et plus rapide que selon l'état de la technique. A cet effet, une structure de couches de laque photosensible est formée sur une structure guide d'ondes (1) verticale plane. La structure couche de laque photosensible (3) correspond sensiblement à la structure du réseau de Bragg (5) et du guide d'ondes à nervures (6) et est formée dans la zone du réseau de Bragg (5) sensiblement en forme de lignes avec une largeur de bande correspondant à au moins 70 % de la distance de deux lignes espacées. Ensuite la structure guide d'ondes (1) verticale plane dotée de la structure couche de laque photosensible (3) est gravée et la structure couche de laque photosensible est détachée de la structure guide d'ondes (1) verticale plane.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)