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1. (WO2006045195) NOUVELLES COMPOSITIONS DE THIOSILICATE PHOSPHORE ET PROCEDES DE DEPOT FAISANT INTERVENIR DES SOURCES DE BARYUM SILICIUM SOUS VIDE POUR LE DEPOT DE PELLICULES DE THIOSILICATE PHOSPHORE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/045195    N° de la demande internationale :    PCT/CA2005/001647
Date de publication : 04.05.2006 Date de dépôt international : 28.10.2005
CIB :
C23C 16/42 (2006.01), H05B 33/22 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01), C23C 16/48 (2006.01), C23C 16/455 (2006.01)
Déposants : IFIRE TECHNOLOGY CORP. [CA/CA]; 10102-114 Street, Fort Saskatchewan, Alberta T8L 3W4 (CA) (Tous Sauf US).
KOSYACHKOV, Alexander [CA/CA]; (CA) (US Seulement).
PUGLIESE, Vincent, Joseph, Alfred [US/CA]; (CA) (US Seulement).
ACCHIONE, Joe [CA/CA]; (CA) (US Seulement).
COOL, Stephen, Charles [CA/CA]; (CA) (US Seulement)
Inventeurs : KOSYACHKOV, Alexander; (CA).
PUGLIESE, Vincent, Joseph, Alfred; (CA).
ACCHIONE, Joe; (CA).
COOL, Stephen, Charles; (CA)
Mandataire : BARTOSZEWICZ, Lola, A.; Sim & McBurney, 330 University Avenue,, 6th Floor, Toronto, Ontario M5G 1R7, (CA)
Données relatives à la priorité :
60/622,842 29.10.2004 US
Titre (EN) NOVEL THIOSILICATE PHOSPHOR COMPOSITIONS AND DEPOSITION METHODS USING BARIUM-SILICON VACUUM DEPOSITION SOURCES FOR DEPOSITION OF THIOSILICATE PHOSPHOR FILMS
(FR) NOUVELLES COMPOSITIONS DE THIOSILICATE PHOSPHORE ET PROCEDES DE DEPOT FAISANT INTERVENIR DES SOURCES DE BARYUM SILICIUM SOUS VIDE POUR LE DEPOT DE PELLICULES DE THIOSILICATE PHOSPHORE
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to novel thiosilicate phosphor compositions. The invention is further a physical vapour deposition method for the deposition of rare earth activated thiosilicate phosphor compositions comprising providing at least one or more source materials where the source materials may comprise a barium silicon alloy, an intermetallic barium silicon compound, a protected barium metal and combinations thereof; providing an activator species; and effecting deposition of the one or more source materials and activator species as a thin film phosphor composition on a selected substrate. The method allows for the deposition of blue thin film electroluminescent phosphors with high luminance and colors required for TV applications.
(FR)La présente invention concerne de nouvelles compositions de thiosilicate phosphore ainsi qu'un procédé de dépôt par évaporation sous vide physique destiné au dépôt de compositions de thiosilicate phosphore activées par terres rares, consistant à se munir d'au moins un matériau source pouvant comporter un alliage de baryum silicium, un composé de baryum silicium intermétallique, un métal de baryum protégé et des combinaisons de ceux-ci ; à se munir d'une espèce d'activateur ; et à réaliser le dépôt du ou des matériaux sources et de l'espèce d'activateur en tant que composition de phosphore en couche mince sur un substrat choisi. Ledit procédé permet de déposer des phosphores électroluminescents bleus en couche mince présentant un pouvoir lumineux élevé et des couleurs adaptés à des applications TV.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)