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1. (WO2006044690) MATERIAUX D'IMPREGNATION FONCTIONNELS A FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/044690    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/037063
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 14.10.2005
CIB :
G03C 1/76 (2006.01), C08F 2/46 (2006.01), C08J 7/18 (2006.01)
Déposants : MOLECULAR IMPRINTS, INC. [US/US]; 1807 West Braker Ln, Bldg. C-100, Austin, TX 78758-3605 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : XU, Frank, Y.; (US).
CHUN, Jun, Sung; (US).
WATTS, Michael, P. C.; (US)
Mandataire : BROOKS, Kenneth, C.; P.O. Box 81536, Austin, TX 78708-1536 (US)
Données relatives à la priorité :
10/967,740 18.10.2004 US
Titre (EN) LOW-K DIELECTRIC FUNCTIONAL IMPRINTING MATERIALS
(FR) MATERIAUX D'IMPREGNATION FONCTIONNELS A FAIBLE CONSTANTE DIELECTRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)In a substantially planar circuit, the conductors are separated by an inorganic material with a dielectric constant of less than about 3.0. The dielectric layers are formed in a process that includes defining trenches and/or vias for the conductors by imprinting an initially planar layer of a radiation curable composition. The imprinting die is preferably UV transparent such that the composition is UV cured while the imprint die is in place. The curable composition includes an organic modified silicate compound and a second decomposable organic component, the latter forming nanometer scale pores as the organic compounds are subsequently decomposed to provide a polysilicate matrix. The pores reduce the effective dielectric constant from that of otherwise dense silicon dioxide.
(FR)Selon l'invention, dans un circuit sensiblement planaire, des conducteurs sont séparés par un matériau inorganique présentant une constante diélectrique inférieure à environ 3,0. Les couches diélectriques sont formées dans un processus qui consiste à former des tranchées et/ou des trous d'interconnexion pour les conducteurs par imprégnation d'une couche initialement planaire d'une composition durcissable par rayonnement. La matrice d'imprégnation est de préférence transparente aux UV de façon que la composition soit durcie par UV pendant que la matrice d'imprégnation est en place. La composition durcissable comprend un composé silicate modifié organique et un deuxième composant organique pouvant être décomposé, ce dernier formant des pores à l'échelle nanométrique à mesure que les composés organiques se décomposent afin d'obtenir une matrice polysilicate. Les pores réduisent la constante diélectrique effective par rapport à celle de dioxyde de silicium dense.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)