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1. (WO2006044221) PROCEDE ET APPAREIL COMPRENANT UN DISPOSITIF DE SECURITE AU NIVEAU DU RETICULE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/044221    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/035972
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 07.10.2005
CIB :
G03B 27/58 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3 Marunouchi, 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331 (JP) (Tous Sauf US).
PHILLIPS, Alton, Hugh [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PHILLIPS, Alton, Hugh; (US)
Mandataire : VAN HORN, Charles, E.; Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner L.L.P., 901 New York Avenue, NW, Washington, DC 20001 (US)
Données relatives à la priorité :
10/968,405 18.10.2004 US
Titre (EN) METHOD AND APPARATUS HAVING A RETICLE STAGE SAFETY FEATURE
(FR) PROCEDE ET APPAREIL COMPRENANT UN DISPOSITIF DE SECURITE AU NIVEAU DU RETICULE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus and method are disclosed having a stage reticle safety feature. The apparatus includes a reticle stage and an optical stage. The reticle stage supports a reticle and is capable of moving the reticle in x-y-z directions. The optical stage includes a plurality of components to direct light reflected from the reticle onto a wafer substrate and a safety mechanism to move one or more components of the optical stage away from the reticle stage.
(FR)L'invention concerne un procédé et un appareil comprenant un dispositif de sécurité au niveau du réticule. L'appareil comprend un étage réticulaire et un étage optique. L'étage réticulaire supporte un réticule et peut déplacer le réticule dans les directions x-y-z. L'étage optique comprend une pluralité de composants destinés à diriger la lumière réfléchie à partir du réticule sur un substrat de tranche, et un mécanisme de sécurité déplaçant un ou plusieurs composants de l'étage optique loin de l'étage réticulaire.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)