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1. (WO2006043928) DISQUE CONDITIONNEUR UTILISÉ POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/043928    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/033960
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 13.10.2004
CIB :
B24B 1/00 (2006.01), B24B 21/18 (2006.01), B24B 33/00 (2006.01), B24B 47/26 (2006.01), B24B 55/00 (2006.01), B24B 5/00 (2006.01), B24B 7/00 (2006.01), B24B 7/16 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue, Santa Clara, CA 95054 (US) (Tous Sauf US).
DONOHUE, Timothy, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : DONOHUE, Timothy, J.; (US)
Mandataire : GOREN, David, J.; Fish & Richardson P.C., 500 Arguello Street, Suite 500, Redwood City, CA 94063-1526 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CONDITIONER DISK FOR USE IN CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
(FR) DISQUE CONDITIONNEUR UTILISÉ POUR POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A conditioner disk (200) for use on a polishing pad (32) in chemical mechanical polishing process includes a base structure (210), a plurality of blades (220) supported by the base structure (210). The blades (220) radiate radially and tangentially outwardly from a center region (240) of the base structure (21) and extend in a common direction.
(FR)Disque conditionneur (200) utilisé sur un tampon de polissage (32) dans un processus de polissage chimico-mécanique comportant une structure de base (210), une pluralité de lames (220) soutenue par la structure de base (210). Les lames (220) partent vers l’extérieur de façon radiale et tangentielle à partir d’une région centrale (240) de la structure de base (21) et s’étendent dans une direction commune.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)