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1. (WO2006043638) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE BASE DE FORMATION D’IMAGE, MATÉRIAU DE FORMATION D’IMAGE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D’IMAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/043638    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019319
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 20.10.2005
CIB :
G03F 7/031 (2006.01), G03F 7/032 (2006.01), G03F 7/033 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION [JP/JP]; 14-1, Shiba 4-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP) (Tous Sauf US).
URANO, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAMEYAMA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MIZUKAMI, Junji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : URANO, Toshiyuki; (JP).
KAMEYAMA, Yasuhiro; (JP).
MIZUKAMI, Junji; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 1010042 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-305938 20.10.2004 JP
2005-197677 06.07.2005 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, IMAGE-FORMING BASE MATERIAL, IMAGE-FORMING MATERIAL, AND IMAGE-FORMING METHOD
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, MATÉRIAU DE BASE DE FORMATION D’IMAGE, MATÉRIAU DE FORMATION D’IMAGE, ET PROCÉDÉ DE FORMATION D’IMAGE
(JA) 感光性組成物、画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a photosensitive composition which is highly sensitive to laser light, particularly to laser light from ultraviolet to blue-violet, and is excellent in long-term storage stability and adhesion to a substrate. The photosensitive composition is suitably used as a solder resist or a dry film, and in particular it is suitable for direct drawing wherein laser light from ultraviolet to blue-violet is used. Also disclosed are an image-forming base material using such a photosensitive composition, an image-forming material and an image-forming method. Specifically disclosed is a photosensitive composition containing an ethylenically unsaturated group-containing compound (A), a photopolymerization initiator (B) and an alkali-soluble resin (C) which is characterized in that the photopolymerization initiator (B) contains a photopolymerization initiator having a specific structure and an average particle diameter of not less than 0.001 μm and not more than 150 μm.
(FR)L’invention concerne une composition photosensible qui est extrêmement sensible à la lumière laser, en particulier à la lumière laser de l’ultraviolet au bleu violet, et excellente en matière de stabilité de stockage à long terme et d’adhérence à un substrat. La composition photosensible s’utilise convenablement comme résist de brasage ou film sec, et convient en particulier pour tirage direct utilisant la lumière laser de l’ultraviolet au bleu violet. L'invention divulgue également un matériau de base de formation d’image employant une telle composition photosensible, un matériau de formation d’image et un procédé de formation d’image. Elle porte spécifiquement sur une composition photosensible englobant un composé contenant un groupe non saturé en éthylène (A), un initiateur de photopolymérisation (B) et une résine soluble dans un alcalin (C) caractérisée en ce que l’initiateur de photopolymérisation (B) contient un initiateur de photopolymérisation ayant une structure spécifique et un diamètre particulaire moyen supérieur ou égal à 0,001 µm et ne dépassant pas 150 µm.
(JA) レーザー光、特に紫外から青紫色レーザー光に対して高感度であると共に、経時保存安定性、及び基板に対する密着性に優れた感光性組成物であって、特に、ソルダーレジストあるいはドライフィルム用として、又、特に紫外から青紫色レーザー光による直接描画に用いるに好適な感光性組成物、並びにそれを用いた画像形成材料、画像形成材、及び画像形成方法を提供する。  (A)エチレン性不飽和基含有化合物、(B)光重合開始剤、及び(C)アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性組成物であって、(B)光重合開始剤が特定構造を有し、且つ平均粒子径0.001μm以上150μm以下である光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)