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1. (WO2006043458) DISPOSITIF D’ECLAIRAGE OPTIQUE, SYSTEME D’EXPOSITION ET PROCEDE D’EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/043458    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018809
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 12.10.2005
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G02B 13/24 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
SHIGEMATSU, Koji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SHIGEMATSU, Koji; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg. 10, Kanda-tsukasacho 2-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-303902 19.10.2004 JP
Titre (EN) LIGHTING OPTICAL DEVICE, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D’ECLAIRAGE OPTIQUE, SYSTEME D’EXPOSITION ET PROCEDE D’EXPOSITION
(JA) 照明光学装置、露光装置、および露光方法
Abrégé : front page image
(EN)A lighting optical device capable of realizing desired zonal lighting or circular lighting without substantially being affected by a zero-order light from a diffraction optical element. The device comprises a diffraction optical element (3) for converting a light beam from a light source (1) into a light beam with a specified light intensity distribution, an optical integrator (8) disposed between the diffraction optical element and a surface (M) to be irradiated to form a substantial surface illuminant on a lighting pupil surface based on a light beam from the diffraction optical element, shaping optical systems (4, 6, 7) disposed between the diffraction optical element and the optical integrator to vary the size and the shape of the substantial surface illuminant, and a blocking means disposed, on the light path of the shaping optical system, at a position in substantially Fourier transform relation with the diffraction optical element to block zero-order light from the diffraction optical element against advancing along a lighting light path.
(FR)L’invention concerne un dispositif d’éclairage optique permettant de réaliser l’éclairage zonal souhaité ou l’éclairage circulaire sans être sensiblement affecté par une lumière d’ordre zéro à partir d’un élément de diffraction optique. Le dispositif comprend un élément de diffraction optique (3) pour convertir un faisceau lumineux d’une source lumineuse (1) en un faisceau lumineux avec une distribution d’intensité lumineuse spécifiée, un intégrateur optique (8) placé entre l’élément de diffraction optique et une surface (M) à irradier pour former une surface substantielle lumineuse sur une surface d’élément d’éclairage basée sur un faisceau lumineux de l’élément optique de diffraction, des systèmes de dépointage optique (4, 6, 7) placés entre l’élément optique de diffraction et l’intégrateur optique pour modifier la taille et la forme de la surface substantielle lumineuse, ainsi que des moyens de blocage disposés sur le parcours lumineux du système de dépointage optique, à une position se trouvant sensiblement dans une relation de transformation de Fourier avec l’élément de diffraction optique pour bloquer la lumière d’ordre zéro de l’élément de diffraction optique contre l’avancement le long d’un parcours lumineux d’éclairage.
(JA) 回折光学素子からの0次光の影響を実質的に受けることなく、所望の輪帯照明や円形照明などを実現することのできる照明光学装置。光源(1)からの光束を所定の光強度分布の光束に変換する回折光学素子(3)と、回折光学素子と被照射面(M)との間に配置されて回折光学素子からの光束に基づいて照明瞳面に実質的な面光源を形成するオプティカルインテグレータ(8)と、回折光学素子とオプティカルインテグレータとの間に配置されて実質的な面光源の大きさおよび形状を変化させる整形光学系(4,6,7)と、整形光学系の光路中において回折光学素子と実質的にフーリエ変換の関係にある位置に配置されて回折光学素子からの0次光が照明光路に沿って進行するのを阻止する阻止手段とを備えている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)