WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006043454) RÉSINE VULCANISABLE PAR RADIATION, MATÉRIAU DE SCELLEMENT À CRISTAUX LIQUIDES, ET CELLULE D’AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES UTILISANT LEDIT MATÉRIAU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/043454    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018780
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 12.10.2005
CIB :
C08G 59/17 (2006.01), C08F 290/06 (2006.01), G02F 1/1339 (2006.01)
Déposants : NIPPON KAYAKU KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 11-2, Fujimi 1-chome Chiyoda-ku Tokyo 102-8172 (JP) (Tous Sauf US).
IMAIZUMI, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AKATUKA, Yasumasa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OCHI, Naoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHIHARA, Eiichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KUDOU, Masaru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ASANO, Toyohumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TONEDA, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HIRANO, Masahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IMAIZUMI, Masahiro; (JP).
AKATUKA, Yasumasa; (JP).
OCHI, Naoyuki; (JP).
NISHIHARA, Eiichi; (JP).
KUDOU, Masaru; (JP).
ASANO, Toyohumi; (JP).
TONEDA, Naoki; (JP).
HIRANO, Masahiro; (JP)
Mandataire : KAWAGUCHI, Yoshio; Kawaguti & Partners, Yuhsen Shinjuku Gyoen Bldg. 1-11, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 160-0022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-305590 20.10.2004 JP
Titre (EN) RADIATION CURABLE RESIN, LIQUID CRYSTAL SEALING MATERIAL, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY CELL USING SAME
(FR) RÉSINE VULCANISABLE PAR RADIATION, MATÉRIAU DE SCELLEMENT À CRISTAUX LIQUIDES, ET CELLULE D’AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES UTILISANT LEDIT MATÉRIAU
(JA) 放射線硬化性樹脂、液晶シール剤およびそれを用いた液晶表示セル
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed are a radiation curable resin having an extremely low possibility of contaminating liquid crystals, and a liquid crystal sealing material using such a radiation curable resin. Specifically disclosed is a liquid crystal sealing material characterized by containing a radiation curable resin (a) represented by the general formula (1) below, a photopolymerization initiator (b) and a filler (c) having an average particle diameter of not more than 3 µm. (In the formula (1), R1 represents a hydrogen atom or a methyl group; R2s may be the same or different and respectively represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a monovalent straight chain, branched or cyclic alkyl group having 1-10 carbon atoms or an alkoxy group having 1-10 carbon atoms; m represents an integer of 1-4; R3 represents a hydrogen atom or a methyl group; R4 represents a straight chain, branched or cyclic alkyl group having 1-10 carbon atoms; l represents a range of positive numbers from 1 to 5; and the repeating unit number n represents a range of positive numbers from 0 to 20.)
(FR)L’invention concerne une résine vulcanisable par radiation présentant extrêmement peu de risques de contaminer les cristaux liquides, et un matériau de scellement à cristaux liquides utilisant une telle résine vulcanisable par radiation. L’invention concerne spécifiquement un matériau de scellement à cristaux liquides caractérisé en ce qu’il contient une résine vulcanisable par radiation (a) représentée par la formule générale (1) ci-dessous, un initiateur de photopolymérisation (b) et une matière de remplissage (c) d’un diamètre particulaire moyen ne dépassant pas 3 µm. (Dans la formule (1), R1 représente un atome d’hydrogène ou un groupe méthyle; les R2 peuvent être identiques ou différents et représentent respectivement un atome d’hydrogène, un atome d'halogène, un groupe hydroxyle, une chaîne droite monovalente, un groupe alkyle à ramification ou cyclique ayant 1 à 10 atomes de carbone ou bien un groupe alcoxy ayant 1 à 10 atomes de carbone; m représente un nombre entier de 1 à 4; R3 représente un atome d’hydrogène ou un groupe méthyle; R4 représente une chaîne droite, un groupe alkyle à ramification ou cyclique ayant 1 à 10 atomes de carbone; l représente une fourchette de nombres positifs de 1 à 5; et le nombre d’unités de répétition n représente une fourchette de nombres positifs de 0 à 20.)
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)