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1. (WO2006042985) DISPOSITIF DE GRAVURE D'UNE COUCHE CONDUCTRICE ET PROCEDE DE GRAVURE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/042985    N° de la demande internationale :    PCT/FR2005/050799
Date de publication : 27.04.2006 Date de dépôt international : 30.09.2005
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    31.05.2006    
CIB :
C25F 3/14 (2006.01), H01L 31/18 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE [FR/FR]; 18 AVENUE D'ALSACE, F-92400 COURBEVOIE (FR) (Tous Sauf US).
MAZZARA, Christophe [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
GIRARD, Jaona [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : MAZZARA, Christophe; (FR).
GIRARD, Jaona; (FR)
Mandataire : AUPETIT, Muriel; SAINT-GOBAIN RECHERCHE, 39 Quai Lucien Lefranc, F-93300 AUBERVILLIERS (FR)
Données relatives à la priorité :
0452369 19.10.2004 FR
Titre (EN) DEVICE FOR ETCHING A CONDUCTIVE LAYER AND ETCHING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE GRAVURE D'UNE COUCHE CONDUCTRICE ET PROCEDE DE GRAVURE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a device for chemically etching an electrically conductive layer (2) on a transparent substrate (1), comprising means for supporting (4) the substrate (1) and means for spraying (5) a solution. The invention is characterized in that the spraying means (5) consist of a plurality of nozzles (50) which are arranged above the substrate and which are designed to spray simultaneously on the layer to be etched at least two solutions (7, 8), either independently of each other, or in the form of a mixture provided at the nozzles.
(FR)Dispositif pour graver chimiquement une couche à propriétés de conduction électrique (2) sur un substrat transparent (1), comportant des moyens de support (4) du substrat (1) et des moyens de projection (5) d'une solution, caractérisé en ce que les moyens de projection (5) consistent en une multiplicité de buses (50) qui sont agencées au-dessus du substrat et qui sont destinées à projeter simultanément sur la couche à graver au moins deux solutions (7, 8), soit de manière indépendante l'une de l'autre, soit selon un mélange effectué au niveau des buses.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)