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1. (WO2006041727) TÊTE DE POLISSAGE CHÉMICO-MÉCANIQUE ET MÉTHODE DE POLISSAGE SÉLECTIVE DE MÉTAL ET DE BARRIÈRE

Pub. No.:    WO/2006/041727    International Application No.:    PCT/US2005/035264
Publication Date: 20 avr. 2006 International Filing Date: 28 sept. 2005
IPC: B24D 13/14
B24D 3/26
B24D 3/30
B32B 3/00
B32B 3/26
C08J 9/36
Applicants: MARKS, Dan
OBENG, Yaw, S.
Inventors: MARKS, Dan
OBENG, Yaw, S.
Title: TÊTE DE POLISSAGE CHÉMICO-MÉCANIQUE ET MÉTHODE DE POLISSAGE SÉLECTIVE DE MÉTAL ET DE BARRIÈRE
Abstract:
La présente invention a pour objet général une tête de polissage comprenant une structure de polissage. Ladite structure comprend un substrat en mousse thermoplastique dont la surface comprend des cellules concaves. Ledit substrat comprend un mélange réticulé de copolymère éthylène-acétate de vinyle et de polyéthylène. Ledit substrat présente une dureté comprise entre 24 shore A environ et 100 Shore A environ. Dans d’autres modes de l’invention, celle-ci décrit une méthode de préparation de la tête de polissage, un dispositif de polissage incluant ladite tête, et une méthode de polissage d’un substrat semi-conducteur employant ladite tête.