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1. (WO2006041542) PROCEDE ET SYSTEME DE COMMANDE DYNAMIQUE D'UN TRAVAIL METROLOGIQUE EN COURS
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/041542    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/022191
Date de publication : 20.04.2006 Date de dépôt international : 23.06.2005
CIB :
G05B 19/418 (2006.01), G05B 23/02 (2006.01)
Déposants : ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US) (Tous Sauf US).
PURDY, Matthew, A. [US/US]; (US) (US Seulement).
NICKSIC, Cabe, W. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PURDY, Matthew, A.; (US).
NICKSIC, Cabe, W.; (US)
Mandataire : DRAKE, Paul, S.; Advanced Micro Devices, Inc., 5204 East Ben White Boulevard, Mail Stop 562, Austin, TX 78741 (US)
Données relatives à la priorité :
10/958,834 05.10.2004 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR DYNAMICALLY CONTROLLING METROLOGY WORK IN PROGRESS
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE COMMANDE DYNAMIQUE D'UN TRAVAIL METROLOGIQUE EN COURS
Abrégé : front page image
(EN)The present invention is generally directed to various methods and systems for dynamically controlling metrology work in progress. In one illustrative embodiment, the method comprises providing a metrology control unit (12) that is adapted to control metrology work flow to at least one metrology tool (14), identifying a plurality of wafer lots (23) that are in a metrology queue wherein the wafer lots (23) are intended to be processed in at least one metrology tool (14), and wherein the metrology control unit (12) selects at least one of the wafer lots (23) for metrology processing in the at least one metrology tool (14) and selects at least one other of the plurality of wafer lots (23) to be removed from the metrology queue based upon the metrology processing of the selected at least one wafer lot (23) in the at least one metrology tool (14).
(FR)L'invention concerne de manière générale divers procédés et systèmes permettant de commander dynamiquement un travail métrologique en cours. Dans une forme de réalisation, le procédé comporte les étapes consistant à: prévoir une unité (12) de commande métrologique permettant de commander le flux des travaux en direction d'au moins un instrument métrologique (14); identifier une pluralité de lots (23) de tranches se trouvant dans une file d'attente métrologique, lesdits lots (23) devant être traités dans au moins un instrument métrologique (14). L'unité (12) de commande métrologique sélectionne au moins un des lots (23) à des fins de traitement métrologique par le(s) instrument(s) métrologique(s) (14), et sélectionne au moins un autre de la pluralité des lots (23) devant être retiré de la file d'attente métrologique sur la base du traitement métrologique du ou des lot(s) (23) sélectionné(s) par le(s) instrument(s) métrologique(s) (14).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)