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1. (WO2006041207) COMPOSITION DE SOLUTION ET DISPOSITIF POLYMERE PHOTOEMETTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/041207    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/019257
Date de publication : 20.04.2006 Date de dépôt international : 13.10.2005
CIB :
C08L 101/00 (2006.01), C09K 11/06 (2006.01), H01L 51/54 (2006.01)
Déposants : SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP) (Tous Sauf US).
SUZUKI, Tomoyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
IIMURA, Kiyotoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AGATA, Katsumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUZUKI, Tomoyuki; (JP).
IIMURA, Kiyotoshi; (JP).
AGATA, Katsumi; (JP)
Mandataire : ENOMOTO, Masayuki; c/o Sumitomo Chemical Intellectual Property Service, Limited 5-33, Kitahama 4-chome, Chuo-ku Osaka-shi, Osaka 5418550 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-301417 15.10.2004 JP
Titre (EN) SOLUTION COMPOSITION AND POLYMER LIGHT-EMITTING DEVICE
(FR) COMPOSITION DE SOLUTION ET DISPOSITIF POLYMERE PHOTOEMETTEUR
(JA) 溶液組成物および高分子発光素子
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a solution composition with extremely high viscosity which contains one or more solvents and one or more polymers having a Z-average molecular weight from 5.0 × 104 to 5.0 × 106 in terms of polystyrene. By using such a solution composition, a highly uniform film can be easily formed with good film-forming properties.
(FR)La présente invention concerne une solution de viscosité extrêmement élevée contenant un ou plusieurs solvants et un ou plusieurs polymères dont la masse moléculaire Z-moyenne varie entre 5,0 × 104 et 5,0 × 106 pour le polystyrène. L'utilisation d'une telle composition de solution permet la formation aisée d'un film d'uniformité élevée présentant des propriétés filmogènes satisfaisantes.
(JA)溶媒を1種類以上と、ポリスチレン換算のZ平均分子量が5.0×104~5.0×106である重合体を1種類以上含む粘度の顕著に高い溶液組成物を提供するものであり、該溶液組成物により、成膜性が良好で、均一性の高い膜が容易に得られる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)