WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2006041106) FORMULATION DE RÉSIST CONTENANT UN COLORANT ORGANOSOLUBLE ET FILTRE COLORÉ EMPLOYANT LADITE FORMULATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/041106    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018815
Date de publication : 20.04.2006 Date de dépôt international : 12.10.2005
CIB :
G03F 7/004 (2006.01), C08F 2/50 (2006.01), G02B 5/20 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), C09B 69/04 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
HOSAKA, Kazuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
YAMADA, Mariko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MAEDA, Seisuke [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUZUKI, Masayoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : HOSAKA, Kazuyoshi; (JP).
YAMADA, Mariko; (JP).
MAEDA, Seisuke; (JP).
SUZUKI, Masayoshi; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office Shin-Ochanomizu Urban Trinity 2, Kandasurugadai 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-300008 14.10.2004 JP
Titre (EN) RESIST COMPOSITION CONTAINING ORGANIC SOLVENT SOLUBLE DYE AND COLOR FILTER USING THE SAME
(FR) FORMULATION DE RÉSIST CONTENANT UN COLORANT ORGANOSOLUBLE ET FILTRE COLORÉ EMPLOYANT LADITE FORMULATION
(JA) 有機溶媒溶解性染料を含有するレジスト組成物及びそれを用いるカラーフィルター
Abrégé : front page image
(EN)This invention provides a color resist composition that, by virtue of an increased dye concentration for meeting a film thickness reduction demand in a color filter, can exhibit high spectroscopic spectrum reproduction, high heat resistance, and lightfastness, and, at the same time, has a high resolution of not more than 5 µm and is free from any development residue. The resist composition comprises a dye containing cation represented by formula (1) wherein R1, R2, R3 and R4 each represent a hydrogen atom or an organic group. The dye is a sulfonic acid salt or a carboxylic acid salt.
(FR)La présente invention a pour objet une formulation de résist coloré qui, grâce à une concentration en colorant plus élevée qui permet de diminuer l'épaisseur de film d'un filtre coloré, présente une capacité de reproduction du spectre lumineux élevée, une résistance à la chaleur élevée, une solidité à la lumière importante, tout en affichant une résolution importante, c’est-à-dire inférieure ou égale à 5 µm, et en ne contenant aucun résidu de fabrication. La formulation de résist inclut un colorant cationique de formule (1) où R1, R2, R3 et R4 représentent chacun un atome d'hydrogène ou un groupement organique. Le colorant est un sel d’acide sulfonique ou un sel d’acide carboxylique.
(JA)【課題】カラーフィルターの薄膜化に対応すべく、染料濃度を高めることにより高い分光スペクトルの再現性、高い耐熱性、耐光性を示し、且つ、5μm以下の高い解像性を持ちさらに現像残渣のないカラーレジスト組成物を提供する。 【解決手段】式(1): (式中、R1、R2、R3及びR4はそれぞれ水素原子又は有機基を示す。)で表される陽イオンを含有する染料を含むレジスト組成物である。染料がスルホン酸塩又はカルボン酸塩である。                                                                                 
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)