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1. (WO2006041086) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/041086    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018783
Date de publication : 20.04.2006 Date de dépôt international : 12.10.2005
CIB :
H01L 21/027 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
NAGASAKA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAGASAKA, Hiroyuki; (JP)
Mandataire : KAWAKITA, Kijuro; YKB Mike Garden 5-4, Shinjuku 1-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-298972 13.10.2004 JP
2004-358606 10.12.2004 JP
Titre (EN) EXPOSURE DEVICE, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION, PROCEDE D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
(JA) 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法
Abrégé : front page image
(EN)An exposure device (EX) fills an optical path space of the image surface side of a projection optical system (PL) with liquid (LQ) and exposes a substrate (P) via the projection optical system (PL) and the liquid (LQ). The exposure device (EX) has a measurement device (30) for measuring an optical characteristic of the liquid (LQ). According to the measurement result, it is possible to adjust the optical characteristic of the liquid by a liquid mixing device (19). Thus, it is possible to maintain the exposure accuracy when performing immersion exposure at a desired state.
(FR)L'invention concerne un dispositif d'exposition (EX) remplissant de liquide (LQ) un espace de trajet optique du côté surface d'image d'un système optique de projection (PL) et exposant un substrat (P) par le biais du système optique de projection (PL) et du liquide (LQ). Le dispositif d'exposition (EX) possède un dispositif de mesure (30) pour mesurer une caractéristique optique du liquide (LQ). Selon le résultat de mesure, il est possible d'ajuster la caractéristique optique du liquide par un dispositif de mélange de liquide (19). On peut ainsi maintenir la précision d'exposition lors d'une exposition par immersion dans un état désiré.
(JA) 露光装置EXは、投影光学系PLの像面側の光路空間を液体LQで満たし、投影光学系PLと液体LQとを介して基板Pを露光する。露光装置EXは、液体LQの光学的な特性を計測する計測装置30を備えている。計測結果に基づいて液体混合装置19により液体の光学的特性を調整してもよい。液浸露光するときの露光精度を所望状態に維持できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)