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1. (WO2006040964) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN HALOGENURE DE SILYLALCOXYMETHYLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/040964    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018405
Date de publication : 20.04.2006 Date de dépôt international : 28.09.2005
CIB :
C07F 7/08 (2006.01)
Déposants : DOW CORNING TORAY CO., LTD. [JP/JP]; 1-3, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo, 1000005 (JP) (Tous Sauf US).
WAKITA, Keiji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : WAKITA, Keiji; (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-298875 13.10.2004 JP
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING SILYLALKOXYMETHYL HALIDE
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION D'UN HALOGENURE DE SILYLALCOXYMETHYLE
Abrégé : front page image
(EN)A method for making a silylalkoxymethyl halide at good yield represented by the formula: R1R2R3Si-R4-O-CH2X wherein R1, R2, and R3 are an alkyl, cycloalkyl, aryl group, or a halogen atom, R4 is a divalent hydrocarbyl group having 1 to 10 carbon atoms, and X is a halogen atom, by reacting: (a) a silyl alcohol compound with the formula R1R2R3Si-R4-OH wherein R1, R2, R3 and R4 are defined as above, with (b) formaldehyde or a polymer thereof, and (c) a halosilane.
(FR)L'invention porte sur un procédé de fabrication, à haut rendement, d'un halogénure, représenté par la formule: R1R2R3Si-R4-O-CH2X dans laquelle R1, R2 et R3 représentent un groupe alkyle, cycloalkyle, aryle ou un atome d'halogène; R4 représente un groupe hydrocarbyle divalent possédant de 1 à 10 atomes de carbone et X représente un atome d'halogène. Ce procédé consiste à faire réagir: (a) un composé alcoolique silyle avec la formule R1R2R3Si-R4-OH, dans laquelle R1, R2, R3 et R4 sont tels que définis ci-dessus, avec (b) un formaldéhyde ou un polymère de celui-ci et (c) un halosilane.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)