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1. (WO2006038984) SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA PAR ONDES DE SURFACE ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038984    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/028506
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 10.08.2005
CIB :
H01J 7/24 (2006.01), H05B 31/26 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
CHEN, Lee [US/US]; (US) (US Seulement).
TIAN, Caiz Hong [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMOTO, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Lee; (US).
TIAN, Caiz Hong; (JP).
MATSUMOTO, Naoki; (JP)
Mandataire : MAIER, Gregory, J.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C., 1940 Duke Street, Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
10/953,802 30.09.2004 US
Titre (EN) SURFACE WAVE PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD OF USING
(FR) SYSTEME DE TRAITEMENT AU PLASMA PAR ONDES DE SURFACE ET SON PROCEDE D'UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)A SWP source includes an electromagnetic (EM) wave launcher configured to couple EM energy in a desired EM wave mode to a plasma by generating a surface wave on a plasma surface of the EM wave launcher adjacent the plasma. A power coupling system is coupled to the EM wave launcher and configured to provide the EM energy to the EM wave launcher for forming the plasma. A cover plate coupled to the plasma surface of the EM wave launcher protects the EM wave launcher from the plasma.
(FR)La présente invention concerne une source SWP qui comprend un système de lancement d'onde électromagnétique (EM) configuré de manière à coupler l'énergie EM dans un mode d'onde EM souhaité à un plasma, en générant une onde de surface sur une surface de plasma du système de lancement d'onde EM situé de manière adjacente au plasma. Un système de couplage électrique est couplé au système de lancement d'onde EM et configuré de manière à fournir l'énergie EM au système de lancement d'onde EM pour former le plasma. Une plaque de couverture, couplée à la surface du plasma du système de lancement d'onde EM, protège le système de lancement d'onde EM du plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)