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1. (WO2006038975) METHODE ET SYSTEME POUR AMELIORER UN ACCOUPLEMENT ENTRE UNE SOURCE DE PLASMA A ONDES SURFACIQUES ET UN ESPACE DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038975    N° de la demande internationale :    PCT/US2005/028323
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 10.08.2005
CIB :
C23C 16/00 (2006.01), C23F 1/00 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-6, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 107-8481 (JP) (Tous Sauf US).
CHEN, Lee [US/US]; (US) (US Seulement).
TIAN, Caiz, Hong [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MATSUMOTO, Naoki [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : CHEN, Lee; (US).
TIAN, Caiz, Hong; (JP).
MATSUMOTO, Naoki; (JP)
Mandataire : MAIER, Gregory, J.; Oblon, Spivak, McClelland, Maier & Neustadt, P.C., 1940 Duke Street, Alexandria, VA 22314 (US)
Données relatives à la priorité :
10/953,791 30.09.2004 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR IMPROVING COUPLING BETWEEN A SURFACE WAVE PLASMA SOURCE AND A PLASMA SPACE
(FR) METHODE ET SYSTEME POUR AMELIORER UN ACCOUPLEMENT ENTRE UNE SOURCE DE PLASMA A ONDES SURFACIQUES ET UN ESPACE DE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A method and system for improving the coupling between a surface wave plasma (SWP) source and a plasma space is described. The surface wave plasma source comprises an electromagnetic wave launcher, such as a slot antenna having a resonator plate, wherein at a plasma surface between the resonator plate and the plasma, a mode scrambler is utilized to improve coupling to the plasma.
(FR)L'invention concerne une méthode et un système pour améliorer l'accouplement d'une source de plasma à ondes surfaciques (SWP) et d'un espace de plasma. La source de plasma à ondes surfaciques comprend un dispositif de lancement d'ondes électromagnétiques, notamment une antenne à fente présentant une plaque de résonateur, dans laquelle un désembrouilleur de mode est utilisé pour améliorer l'accouplement au plasma, au niveau d'une surface de plasma située entre la plaque de résonateur et l'espace de plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)