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1. (WO2006038724) BASES COSMÉTIQUES ET PRODUITS COSMÉTIQUES LES INCLUANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2006/038724    N° de la demande internationale :    PCT/JP2005/018826
Date de publication : 13.04.2006 Date de dépôt international : 06.10.2005
CIB :
A61K 8/39 (2006.01)
Déposants : NOF CORPORATION [JP/JP]; 20-3, Ebisu 4-chome, Shibuya-ku, Tokyo 1506019 (JP) (Tous Sauf US).
MARUYAMA, Kei-ichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TEZUKA, Yoji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : MARUYAMA, Kei-ichi; (JP).
TEZUKA, Yoji; (JP)
Mandataire : HOSODA, Masutoshi; Akasaka Twin Tower Main Tower 11F 17-22, Akasaka 2-chome Minato-ku, Tokyo 1070052 (JP)
Données relatives à la priorité :
2004-294204 06.10.2004 JP
Titre (EN) COSMETIC BASES AND COSMETICS CONTAINING THE SAME
(FR) BASES COSMÉTIQUES ET PRODUITS COSMÉTIQUES LES INCLUANT
(JA) 化粧料用基剤およびそれを配合してなる化粧料
Abrégé : front page image
(EN)Cosmetic bases consisting of alkylene oxide derivatives represented by the general formula (I): Z - {O(AO)l(EO)m - (BO)nH}a (I) wherein Z is a residue derived from a compound having three to nine hydroxyl groups by the removal of the hydroxyl groups; a is 3 to 9; AO is C3-4 oxyalkylene; EO is oxyethylene; l and m represent the average numbers of added C3-4 oxyalkylene molecules and oxyethylene molecules respectively and satisfy the relationships: 1 < l < 50 and 1 < m < 50 respectively; the AO/EO weight ratio is 1/5 to 5/1 and AO's andEO's may be added at random or in block; BO is oxyalkylene having 4 carbon atoms; and n represents the average number of added BO molecules and satisfies the relationship: 0.5 < n < 5.
(FR)La présente invention a pour objet des bases cosmétiques composées de dérivés d'oxyde d'alkylène de formule générale (I) : Z - {O(AO)l(EO)m - (BO)nH}a (I) où Z est un fragment dérivé d’un composé comportant entre trois et neuf groupements hydroxy par élimination des groupements hydroxy ; a est un nombre compris entre 3 et 9 ; AO représente un motif alkylèneoxy en C3-C4 ; EO représente un motif éthylèneoxy ; l et m représentent les nombres moyens de molécules d’oxyde d’alkylène en C3-C4 et d’oxyde d’éthylène respectivement additionnées, et satisfont aux relations suivantes : 1 < l < 50 et 1 < m < 50, respectivement ; le rapport massique AO/EO est compris entre 1/5 et 5/1 et les AO et les EO peuvent être additionnés de façon aléatoire ou par blocs ; BO représente un motif alkylèneoxy en C4 ; et n représente le nombre moyen de molécules de BO additionnées, et satisfait à la relation : 0,5 < n < 5.
(JA) 下記の式(I)で示されるアルキレンオキシド誘導体からなる化粧料用基剤を提供する。 Z−{O(AO)(EO)m−(BO)nH}a   (I)(式中、Zは3~9個の水酸基を有する化合物の水酸基を除いた残基、aは3~9、AOは炭素数3~4のオキシアルキレン基、EOはオキシエチレン基、lおよびmはそれぞれ炭素数3~4のオキシアルキレン基、オキシエチレン基の平均付加モル数で、1≦l≦50、1≦m≦50であり、AOとEOとの重量比(AO/EO)は1/5~5/1であり、AOとEOはランダム状に付加してもブロック状に付加してもよい。BOは炭素数4のオキシアルキレン基、nはその平均付加モル数で、0.5≦n≦5である。)
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)